Titaniumnitride sputterdoel voor harde coatings (TiN sputterdoel)

Titanium Nitride Sputtering Target is een van de meest gebruikte metaal-keramische functionele targets wereldwijd. Het combineert de elektrische en thermische geleidbaarheid van metalen met de hoge hardheid en corrosiebestendigheid van keramiek. Door processen zoals magnetron sputtering kunnen functionele films met een gebalanceerde eigenschappen worden afgezet. Deze films bieden essentiële slijtagebescherming voor mechanische productie, voldoen aan de hoog-precieze functionele eisen van halfgeleider-elektronica en integreren naadloos esthetische aantrekkingskracht met robuuste bescherming voor decoratieve toepassingen. Het wordt veelvuldig gebruikt in high-end productiegebieden zoals machines, elektronica, decoratie, ruimtevaart en nieuwe energie, waardoor het een veelzijdig kernmateriaal is in diverse industrieën.

Uitstekende Eigenschappen van Titanium Nitride Sputtering Target

l Uitstekende Dichtheid

Relatieve dichtheid ≥98%, met korrelgroottes gelijkmatig verdeeld tussen 3-10 μm, wat boogontlading tijdens sputtering vermindert en de uniformiteit van de filmsamenstelling verbetert.

l Hoge Afzettingssnelheid, Geen Vervaag

Geoptimaliseerde hoge afzettingssnelheden maximaliseren de efficiëntie, waardoor films helder blijven met gegarandeerd uiterlijk en dichtheid.

l Ultra-hard en Slijtvast

Dit titanium nitride sputtering target biedt een consistente en robuuste hardheid van meer dan 1800 HV (Vickers-hardheid). Het biedt een slijtvastheid die 4 tot 8 keer groter is dan conventionele metalen films, terwijl de essentiële taaiheid behouden blijft om filmscheuren actief te voorkomen en de integriteit van de coating te waarborgen.

l Lage Elektrische Weerstand

Weerstand bij kamertemperatuur ≤150 μΩ·cm, ver overtreffend traditionele keramische targets, waardoor het geschikt is voor halfgeleiderpoorten, warmteafvoercoatings en andere geleidende/thermisch geleidende toepassingen.

l Verstelbare Kleur

Natuurlijk goudkleurig, het kan worden aangepast naar zwart, grijs en andere kleuren door procesoptimalisatie, om te voldoen aan high-end decoratieve behoeften.

Brede Toepassingen van Titanium Nitride Sputtering Target

l Hard Coatings

Titanium Nitride Sputtering Target coatings leveren een uniforme, klassieke goudgele afwerking, gekenmerkt door uitzonderlijke helderheid, volledig vrij van vervaging of defecten door deeltjes. Ontworpen voor duurzaamheid, is het oppervlak zeer resistent tegen zowel vervaging als krassen, wat zorgt voor een onberispelijk uiterlijk, zelfs bij intensief, langdurig gebruik. Het voldoet aan de RoHS-milieunormen en verhoogt de productie-efficiëntie met meer dan 30%.

l Halfgeleiderproductie

Zorgt voor stabiele signaaloverdracht in elektronische apparaten en verlengt de levensduur. TiN-coatings zijn volledig compatibel met geavanceerde nodes onder 7 nm, ondersteunen de meest veeleisende halfgeleiderfabricagevereisten en kunnen een halfgeleideropbrengst van ≥98% bereiken, terwijl tegelijkertijd een 25% toename in massaproductie-efficiëntie voor de consumentenelektronica-sector wordt gerealiseerd.

l Optisch Veld

TiN zorgt voor superieure beeldhelderheid en hoge lichtdoorlatendheid in alle optische apparaten. Door het minimaliseren van defecten door deeltjes, verbetert het de lensopbrengst aanzienlijk, wat de capaciteit voor grote volumes biedt die nodig is om duizenden precisie optische componenten per dag te verwerken.