logo
Goede prijs  online

details van de producten

Created with Pixso. Huis Created with Pixso. Producten Created with Pixso.
Metalen spuitdoel
Created with Pixso. Chroomsputtering doel (Cr-sputtering doel), zuiverheid:990,5% tot 99,95%
Detailinformatie
Plaats van herkomst:
China
Certificering:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
Zuiverheid:
99,5%-99,95%
Dikte:
7,19 g/cm³
naam:
Chroomdoel (Cr)
Vormingsproces:
Roterend chroomsputterdoel: spuiten, vlak chroomsputterdoel: heetpersen, sinteren Binden
Productspecificaties:
Platte doelen, roterende doelen
Toepassingsgebieden:
Productie van halfgeleiders, decoratieve coatings
Verpakking Details:
Vacuümverpakking, verpakt in een doos voor opslag en transport
Levering vermogen:
Stabiele levering
Markeren:

Chroomsputterdoel

,

Cr Sputtering doel

,

Metaaldoel Cr Doel

Productomschrijving

Chroom is een zilverwit overgangsmetaal dat bekend staat om zijn hoge hardheid en corrosieweerstand. Het wordt veel gebruikt in roestvrij staal, zeer sterke legeringen en galvaniseren. In de dunnefilmtechnologie en micro-elektronica levert een chroomsputterdoel het bronmateriaal voor het afzetten van functionele en beschermende chroomcoatings, waardoor filmuniformiteit en consistente coatingkwaliteit worden ondersteund.
Onze chroomsputterdoelen zijn verkrijgbaar in roterende en vlakke configuraties om te voldoen aan verschillende apparatuurspecificaties en depositievereisten.

Productopties

Roterende chroomdoelen

Roterende doelen van chroom worden vervaardigd met behulp van een geavanceerd thermisch spuitproces, waardoor een relatieve dichtheid wordt bereikt van95%. Deze productiemethode ondersteunt een efficiënte productie en kortere doorlooptijden, wat kostenvoordelen biedt voor grootschalige operaties.

Deze doelen kunnen worden geproduceerd in lengtes van maximaal4.000 millimeter, geschikt voor een verscheidenheid aan industriële coatingsystemen.


Planaire chroomdoelen

Planaire chroomdoelen worden vervaardigd via gecontroleerde heetpers-, sinter- en bindingsprocessen, wat resulteert in een ultralaag zuurstofgehalte en de afzetting van heldere chroomfilms ondersteunt.

De afmetingen kunnen worden aangepast aan de specifieke apparatuurvereisten en klantspecificaties.

Uitstekende eigenschappen van chroomsputterdoelen

 

l Hoge hardheid, hoge hechting


Afgezette chroomfilms zorgen voor een hoge hardheid en sterke hechting op geschikt voorbereide substraten. Deze eigenschappen helpen de slijtvastheid te verbeteren en de duurzaamheid van de coating te behouden onder veeleisende mechanische omstandigheden.

 

 

l Sterke corrosieweerstand


Chroomfilms zijn corrosie- en oxidatiebestendig en helpen gecoate oppervlakken te beschermen in veeleisende werkomgevingen. De prestaties variëren afhankelijk van de coatingstructuur, afzettingsomstandigheden en chemische blootstelling.

 

 

l Goede elektrische geleidbaarheid en thermische stabiliteit


De elektrische geleidbaarheid en thermische eigenschappen van chroom ondersteunen het gebruik ervan in functionele dunne films voor elektronische componenten en toepassingen waarbij hoge temperaturen nodig zijn.

 

Brede toepassingen van chroomondersteunende doelwitten

 


l Productie van halfgeleiders


Een chroomsputterdoel wordt gebruikt om functionele en beschermende films voor halfgeleidercomponenten en elektronische verpakkingen aan te brengen. Geschikte coatingontwerpen helpen de duurzaamheid van het oppervlak en de weerstand tegen krassen en corrosie te verbeteren, waardoor de betrouwbaarheid van elektronische precisiecomponenten wordt ondersteund.

 

 

l Decoratieve coatings


Chroomsputterdoelen worden gebruikt bij vacuümcoatingprocessen voor horloges, huishoudelijke apparaten en andere consumentenproducten. De afgezette films creëren heldere metallic afwerkingen die visuele aantrekkingskracht combineren met corrosiebestendigheid en oppervlaktebescherming.