logo
Goede prijs  online

details van de producten

Created with Pixso. Huis Created with Pixso. Producten Created with Pixso.
Keramische Targets
Created with Pixso. Titaniumoxide roterend sputterdoel (Tiox sputterdoel)
Detailinformatie
Plaats van herkomst:
China
Certificering:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
Zuiverheid:
≥99,9%
Relatieve dichtheid:
≥97%
naam:
Titaniumoxide roterend sputterdoel (Tiox sputterdoel)
Vormingsproces:
Spuiten, Sinteren
Productspecificaties:
Platte doelen, roterende doelen
Toepassingsgebieden:
Productie van optische apparaten, fotovoltaïsche industrie, productie van halfgeleiders, energiebesp
Verpakking Details:
Vacuümverpakking, verpakt in een doos voor opslag en transport
Levering vermogen:
Stabiele levering
Markeren:

Roterend sputterdoel van titaniumoxide

,

Titaniumoxide sputterdoel

,

TiOx Target Hoge Zuiverheid

Productomschrijving

Titaniumoxide Sputteringschijven zijn keramische schijven gemaakt van hoogzuiver titaniumdioxide (TiOx), geproduceerd via processen zoals hete perssintering of koude isostatische persing. Het heeft kenmerken zoals hoge hardheid, hoog smeltpunt (ongeveer 1855°C) en uitstekende chemische stabiliteit, waardoor het een belangrijk materiaal is voor magne tron sputtering om optische en functionele films te produceren.

Uitstekende Eigenschappen van Titaniumoxide Sputteringschijf (TiOx)

 

l Hoge Zuiverheid Garandeert Filmkwaliteit


Titaniumoxide schijven hebben doorgaans een zuiverheid van ≥ 99,9%, met een zeer laag gehalte aan onzuiverheden, wat filmdefecten effectief vermindert en de stabiliteit van optische en elektrische prestaties verbetert.

 

 

l Uitstekende Chemische Stabiliteit


Titaniumoxide Sputteringschijven zijn bestand tegen corrosie door zuren en basen, en behouden stabiele prestaties in zware omstandigheden zoals hoge temperaturen en hoge luchtvochtigheid, wat de levensduur van de films verlengt.

 

 

l Uitstekende Optische Eigenschappen


Het heeft een hoge brekingsindex en uitstekende doorlaatbaarheid, waardoor de productie van hoogwaardige optische films mogelijk is die geschikt zijn voor anti-reflectiecoatings (AR), anti-glanscoatings, enz.

 


l Dichte en Uniforme Microstructuur


Door gebruik te maken van geavanceerde vormings- en sinterprocessen, heeft het titaniumoxide schijfmateriaal fijne en uniforme deeltjes, wat zorgt voor een stabiele filmsafzettingssnelheid en een goede dikteconsistentie.

 

 

l Goede Mechanische Sterkte en Hittebestendigheid


Met een smeltpunt van ongeveer 1855°C zijn titaniumoxide schijven bestand tegen barsten of beschadiging onder omstandigheden van sputtering met hoog vermogen, waardoor ze geschikt zijn voor langdurige continue productie.

 

 Brede Toepassingen van Titaniumoxide Sputteringschijf (TiOx)

 

l Productie van Optische Apparaten


Titaniumoxide schijven worden gebruikt om films met een hoge brekingsindex te produceren voor optische lenzen, anti-reflectiecoatings (AR Coatings), anti-glansfilms en optische filters, waardoor de lichtdoorlaatbaarheid en beeldkwaliteit worden verbeterd.

 

 

l Fotovoltaïsche Industrie


Gebruikt als beschermende of functionele lagen in transparante geleidende films (TCO), verbeteren titaniumoxide schijven de lichtabsorptie-efficiëntie en apparaatstabiliteit, en worden ze veel gebruikt bij de productie van zonnecellen en fotokatalytische films.

 

 

l Halfgeleiderproductie


Titaniumoxide Sputteringschijven worden gebruikt als diëlektrische lagen, beschermende films en isolatiematerialen om de stabiliteit en isolatieprestaties van chips en elektronische apparaten te verbeteren.

 


l Energiebesparend Glas met Lage Emissie (Low-E)


Titaniumoxide schijven dienen als belangrijke functionele laagmaterialen die zijn ontworpen om de warmte-isolatie en lichtdoorlaatbaarheid van glas te verbeteren. Deze eigenschappen verminderen effectief het energieverbruik, wat leidt tot hun brede toepassing in geavanceerde energiebesparende oplossingen voor gebouwen.