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Cible de pulvérisation d'oxyde de niobium (cible de pulvérisation Nb₂Oₓ)
| Nom De La Marque: | APG |
| Délai De Livraison: | 4-5 semaines |
| Conditions De Paiement: | T/T |
Cible de pulvérisation d'oxyde de niobium
,Cible de pulvérisation Nb₂Oₓ
,Matériau cible en oxyde de niobium
La cible de pulvérisation d'oxyde de niobium est une cible céramique d'oxyde fonctionnelle importante couramment utilisée dans la pulvérisation, le dépôt par laser pulsé (PLD) et d'autres processus de dépôt de couches minces. Cette cible présente une bonne stabilité chimique et de bonnes propriétés électriques, ainsi qu'une excellente transparence et des propriétés antireflets.
Propriétés exceptionnelles de la cible de pulvérisation d'oxyde de niobium
l Stabilité chimique
L'oxyde de niobium présente une stabilité exceptionnelle à température ambiante, réagissant très peu avec les acides et les bases. Cela le rend idéal pour les applications dans des environnements chimiquement corrosifs, maintenant des performances stables dans des conditions chimiques difficiles.
l Performance électrochimique
L'oxyde de niobium présente une excellente stabilité électrochimique et de bonnes propriétés de transport d'électrons, ce qui en fait un matériau idéal pour les dispositifs de stockage d'énergie tels que les batteries et les condensateurs.
l Propriétés optiques exceptionnelles
La cible de pulvérisation d'oxyde de niobium possède un indice de réfraction élevé et de faibles caractéristiques de dispersion, ce qui en fait un matériau idéal pour la production d'éléments optiques tels que les filtres et les revêtements de lentilles.
l Propriétés d'isolation électrique
L'oxyde de niobium est un excellent isolant électrique avec une constante diélectrique élevée, ce qui le rend particulièrement important dans les industries de la microélectronique et des semi-conducteurs.
Applications étendues de la cible de pulvérisation d'oxyde de niobium
l Appareils électroniques
L'application principale de la cible de pulvérisation d'oxyde de niobium se situe dans les appareils électroniques, en exploitant la constante diélectrique élevée (ε≈25-40), la faible densité de courant de fuite et les propriétés semi-conductrices des films de Nb₂O₅.
l Optique
Les films de Nb₂Ox ont un indice de réfraction élevé (1,9-2,3 dans la gamme de la lumière visible), une transparence élevée (≥90%) et une stabilité optique. L'indice de réfraction élevé et la bonne transparence optique de l'oxyde de niobium rendent les films largement utilisés dans les guides d'ondes optiques, les revêtements antireflets et les détecteurs photoélectriques, améliorant considérablement les performances optiques et l'efficacité des appareils.
l Mémoire vive dynamique (DRAM)
La cible de pulvérisation d'oxyde de niobium est utilisée comme couche diélectrique à constante diélectrique élevée dans les cellules de stockage DRAM, remplaçant le SiO₂ et le HfO₂ traditionnels, permettant une capacité plus élevée dans la même surface et réalisant une intégration de mémoire à haute densité.
