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Détails des produits

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Cibles céramiques
Created with Pixso. Cible de pulvérisation de nitrure de titane pour revêtements durs (cible de pulvérisation TiN)
Les informations détaillées
Lieu d'origine:
Chine
Certification:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
Pureté:
99,9%
Compacité:
≥98 %
nom:
Cible de pulvérisation de nitrure de titane pour revêtements durs (cible de pulvérisation TiN)
Processus de formation:
Frittage, Pulvérisation
Spécifications du produit:
Cibles planaires, cibles rotatives
Champs d'application:
Revêtements durs, fabrication de semi-conducteurs, champs optiques
Détails d'emballage:
Emballage sous vide, conditionné en caisse pour le stockage et le transport
Capacité d'approvisionnement:
Approvisionnement stable
Mettre en évidence:

Cible de pulvérisation de nitrure de titane

,

Cible de pulvérisation TiN

,

Cible pour le nitrure de titane

Description de produit

La cible de pulvérisation de nitrure de titane est l'une des cibles fonctionnelles métal-céramique les plus utilisées au monde. Elle combine la conductivité électrique et thermique des métaux avec la dureté élevée et la résistance à la corrosion des céramiques. Grâce à des procédés tels que la pulvérisation magnétron, des films fonctionnels équilibrés peuvent être déposés. Ces films offrent une protection essentielle contre l'usure pour la fabrication mécanique, satisfont aux exigences fonctionnelles de haute précision de l'électronique à semi-conducteurs et intègrent de manière transparente l'attrait esthétique avec une protection robuste pour les applications décoratives. Elle est largement utilisée dans les domaines de la fabrication haut de gamme tels que la machinerie, l'électronique, la décoration, l'aérospatiale et les nouvelles énergies, ce qui en fait un matériau de base polyvalent dans toutes les industries.


Propriétés exceptionnelles de la cible de pulvérisation de nitrure de titane

 

l Excellente densité


Densité relative ≥98%, avec des tailles de grains uniformément réparties entre 3 et 10 μm, réduisant les décharges d'arc pendant la pulvérisation et améliorant l'uniformité de la composition du film.

 

 

l Taux de dépôt élevé, pas de voile


Les taux de dépôt élevés optimisés maximisent l'efficacité, garantissant que les films restent clairs avec une apparence et une densité garanties.

 

 

l Ultra-dur et résistant à l'usure


Cette cible de pulvérisation de nitrure de titane offre une dureté constante et robuste de plus de 1800 HV (dureté Vickers). Elle offre une résistance à l'usure 4 à 8 fois supérieure à celle des films métalliques conventionnels tout en conservant une ténacité essentielle pour prévenir activement la fissuration du film et assurer l'intégrité du revêtement.

 

 

l Faible résistivité électrique


Résistivité à température ambiante ≤150 μΩ·cm, dépassant de loin les cibles céramiques traditionnelles, ce qui la rend adaptée aux grilles de semi-conducteurs, aux revêtements de dissipation thermique et à d'autres applications conductrices/thermo-conductrices.

 

 

l Couleur réglable


Naturellement de couleur dorée, elle peut être ajustée au noir, au gris et à d'autres couleurs grâce à l'optimisation des procédés, répondant aux besoins décoratifs haut de gamme.

 

Applications étendues de la cible de pulvérisation de nitrure de titane

 

l Revêtements durs


Les revêtements de la cible de pulvérisation de nitrure de titane offrent une finition dorée uniforme et classique, caractérisée par une clarté exceptionnelle, entièrement exempte de voile ou de défauts particulaires. Conçue pour la longévité, la surface est très résistante à la décoloration et aux rayures, garantissant une apparence impeccable même en cas d'utilisation intensive et à long terme. Elle est conforme aux normes environnementales RoHS et augmente l'efficacité de la production de plus de 30%.

 

 

l Fabrication de semi-conducteurs


Assure une transmission de signal stable dans les appareils électroniques et prolonge la durée de vie. Les revêtements TiN sont entièrement compatibles avec les nœuds avancés inférieurs à 7 nm, prenant en charge les exigences de fabrication de semi-conducteurs les plus strictes et peuvent atteindre des taux de rendement de semi-conducteurs de ≥98%, tout en offrant simultanément une augmentation de 25% de l'efficacité de la production de masse pour le secteur de l'électronique grand public.

 

 

l Domaine optique


Le TiN assure une clarté d'image supérieure et une transmission lumineuse élevée dans tous les appareils optiques. En minimisant les défauts particulaires, il améliore considérablement les taux de rendement des lentilles, offrant la capacité de haut volume requise pour traiter des milliers de composants optiques de précision par jour.