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Detalhes dos produtos

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Alvos Cerâmicos
Created with Pixso. Alvos de pulverização catódica de óxido de zinco (alvo de pulverização catódica de ZnO)
Informações detalhadas
Lugar de origem:
China
Certificação:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
Pureza:
99,99%
Densidade relativa:
98%
Nome:
Alvos de pulverização catódica de óxido de zinco (alvo de pulverização catódica de ZnO)
Processo de formação:
Sinterização
Especificações do produto:
Metas planas, metas rotativas
Campos de aplicação:
Fabricação de dispositivos ópticos, indústria fotovoltaica
Detalhes da embalagem:
Embalagem selada a vácuo, embalada em caixa para armazenamento e transporte
Habilidade da fonte:
Fonte estável
Destacar:

Alvos de pulverização catódica de óxido de zinco

,

Alvo de pulverização catódica de ZnO

,

Alvo de pulverização catódica de óxido de zinco

Descrição do produto

Alvos de pulverização de óxido de zinco são materiais chave para a fabricação eficiente de filmes finos, amplamente utilizados no processo de deposição física de vapor (PVD). O óxido de zinco fornece uma fonte de material eficiente e uniforme, garantindo que os filmes finos formados no substrato tenham excelente qualidade e consistência. O óxido de zinco (ZnO) é um pó branco com excelentes propriedades elétricas e ópticas. A escolha do óxido de zinco como material alvo é baseada principalmente em sua estabilidade química única e excelentes propriedades físicas. Essas características permitem que ele resista a ambientes de deposição de alta energia durante a fabricação, mantendo sua pureza química e integridade estrutural.

Propriedades Excepcionais de Alvos de Pulverização de Óxido de Zinco

 

l Alta Pureza Garante o Desempenho do Filme

 

Alvos de pulverização de óxido de zinco podem atingir uma pureza superior a 99,99%, com baixo teor de impurezas, garantindo que os filmes finos pulverizados tenham excelentes propriedades elétricas e ópticas.

 

 

l Excelente Transmitância Óptica

 

A transmitância óptica na faixa de luz visível pode exceder 80%, tornando-o adequado para a preparação de filmes ópticos de alta transparência e filmes condutores transparentes.

 

 

l Boa Condutividade (Dopável)

 

Ao dopar com elementos como Al, Ga e B, a resistividade pode ser significativamente reduzida, tornando-o uma alternativa ecologicamente correta aos filmes condutores transparentes de ITO.

 

l Excelente Estabilidade Química

 

É resistente à corrosão por ácidos e álcalis, mantendo um desempenho estável em ambientes de alta temperatura e alta umidade.

 

Amplas Aplicações de Alvos de Pulverização de Óxido de Zinco

 

l Painéis de Exibição

 

Alvos de pulverização de óxido de zinco podem ser usados para produzir filmes de alta transparência e condutividade (substituindo o ITO). Com sua excelente transmitância óptica, baixa resistividade e estabilidade química, os alvos de pulverização de óxido de zinco podem melhorar a uniformidade do brilho, a velocidade de resposta e a vida útil dos displays.

 

 

l Fabricação de Dispositivos Ópticos

 

Alvos de pulverização de óxido de zinco são usados para fabricar vários dispositivos optoeletrônicos, como LEDs e diodos laser. Nessas aplicações, as propriedades ópticas e a condutividade dos filmes de óxido de zinco são cruciais. Portanto, as condições de deposição (como temperatura, pressão e taxa de deposição) devem ser controladas com precisão.

 

 

l Indústria Fotovoltaica


Alvos de pulverização de óxido de zinco desempenham um papel fundamental na fabricação de células solares, fornecendo filmes altamente transparentes e condutores que frequentemente substituem as camadas tradicionais de Óxido de Índio e Estanho (ITO). Essa aplicação é particularmente crítica na produção de células solares de filme fino, onde a otimização da transparência e condutividade da camada de óxido de zinco determina diretamente a eficiência geral do dispositivo.