Alvo de pulverização catódica de boreto de titânio (alvo de pulverização catódica de cerâmica TiB2)

Alvo de Sputtering de Borreto de Titânio é um alvo cerâmico fabricado a partir de pós de TiB₂ de alta pureza através de processos de prensagem a quente ou sinterização. São materiais funcionais com altos pontos de fusão e alta dureza. Ao combinar a excelente estabilidade química do titânio metálico com a alta dureza, resistência ao desgaste e resistência à corrosão dos borretos, os alvos de TiB₂ oferecem desempenho excepcional. Esses alvos são amplamente utilizados em vários processos de revestimento, incluindo deposição física de vapor (PVD), sputtering de magnetron e deposição química de vapor (CVD), permitindo a deposição de filmes finos cerâmicos de alto desempenho em diversos substratos.

Propriedades Excepcionais do Alvo de Sputtering de Borreto de Titânio

l Dureza e Resistência ao Desgaste Ultra-altas

Os filmes depositados podem atingir uma dureza Vickers superior a 3000 HV, aumentando significativamente a resistência a arranhões e ao desgaste da superfície.

l Excelente Resistência à Corrosão e Oxidação

Os filmes permanecem estáveis em ambientes ácidos, alcalinos e oxidativos de alta temperatura, resistindo à reação e degradação, tornando-os adequados para revestimentos protetores em condições operacionais severas.

l Boa Condutividade Elétrica e Térmica

Ao contrário das cerâmicas convencionais, o diboreto de titânio exibe um nível notável de condutividade elétrica e térmica. Essa propriedade única o torna adequado para revestimentos funcionais avançados que exigem tanto dureza excepcional quanto capacidades condutivas.

l Boa adesão e densidade do filme

O uso de Alvo de Sputtering de Borreto de Titânio de alta pureza permite a formação de filmes densos e uniformes com forte adesão, melhorando a consistência e a confiabilidade do produto.

Amplas Aplicações do Alvo de Sputtering de Borreto de Titânio

l Display Painel

Na fabricação de displays de ponta como LCDs, OLEDs e Mini/Micro-LEDs, alvos de óxido de índio e cério podem ser sputtering para formar filmes condutores transparentes com alta transmitância e baixa resistividade para eletrodos e interconexões de painéis de display, melhorando significativamente a uniformidade do brilho, contraste e vida útil.

l Tecnologia de tela sensível ao toque

Em produtos de toque como smartphones, tablets, displays automotivos e painéis de controle industrial, filmes de diboreto de titânio podem substituir filmes ITO tradicionais como eletrodos de toque, oferecendo resposta mais rápida, melhor transmitância e compatibilidade de flexibilidade aprimorada, suportando designs de tela sensível ao toque de molduras estreitas e grandes tamanhos.

 l Indústria fotovoltaica

Em células solares de alta eficiência como HJT e células tandem de perovskita, são usados como materiais de eletrodo condutor transparente para reduzir a resistência em série, melhorar a eficiência de conversão fotoelétrica e aumentar a estabilidade, fornecendo soluções condutivas de maior desempenho para módulos fotovoltaicos de próxima geração.

l Eletrônicos flexíveis

Alvos de Sputtering de Borreto de Titânio podem ser sputtering em substratos flexíveis como poliimida (PI) e PET para formar eletrodos transparentes flexíveis, aplicados em produtos emergentes como displays dobráveis, dispositivos vestíveis e sensores flexíveis.

l Fabricação de dispositivos ópticos

São usados para revestir vidro óptico, pilhas de filmes ópticos, filtros e revestimentos antirreflexo, mantendo alta transmitância enquanto fornecem propriedades condutivas ou antiestáticas, adequados para campos ópticos de precisão como comunicações ópticas e sensoriamento óptico.