Alvo de pulverização catódica de nitreto de titânio para revestimentos duros (alvo de pulverização catódica de estanho)

O Titanium Nitride Sputtering Target é um dos alvos funcionais de metal-cerâmica mais utilizados a nível mundial.Combina a condutividade elétrica e térmica dos metais com a alta dureza e resistência à corrosão da cerâmicaPor meio de processos como a pulverização por magnetrão, filmes funcionais equilibrados podem ser depositados. Estes filmes fornecem proteção essencial contra desgaste para a fabricação mecânica,satisfazer os requisitos funcionais de alta precisão da eletrónica de semicondutores, e integrar perfeitamente o apelo estético com proteção robusta para aplicações decorativas.Aeronáutica, e novas energias, tornando-o um material essencial versátil em todas as indústrias.

Propriedades excepcionais do alvo de pulverização do nitreto de titânio

Eu... Excelente densidade

Densidade relativa ≥ 98%, com tamanhos de grãos distribuídos uniformemente entre 3-10 μm, reduzindo a descarga de arco durante a pulverização e melhorando a uniformidade da composição do filme.

Eu... Alta taxa de deposição, sem nevoeiro

As altas taxas de deposição otimizadas maximizam a eficiência, garantindo que os filmes permaneçam transparentes com a aparência e a densidade garantidas.

Eu... Ultra-duro e resistente ao desgaste

Este alvo de pulverização de nitruro de titânio oferece uma dureza consistente e robusta de mais de 1800 HV (dureza de Vickers).Fornece uma resistência ao desgaste de 4 a 8 vezes superior às películas metálicas convencionais, mantendo ao mesmo tempo a dureza essencial para prevenir ativamente a fissuração do filme e garantir a integridade do revestimento- Não.

Eu... Baixa Resistividade Elétrica

Resistividade à temperatura ambiente ≤ 150 μΩ·cm, muito superior aos alvos cerâmicos tradicionais, tornando-a adequada para portas de semicondutores, revestimentos de dissipação de calor,e outras aplicações condutoras/condutoras térmicas.

Eu... Cor ajustável

Naturalmente de cor dourada, pode ser ajustado para preto, cinza e outras cores através da otimização do processo, atendendo às necessidades decorativas de alta qualidade.

Ampla aplicação do nitreto de titânio como alvo de pulverização

Eu... Revestimentos duros

Os revestimentos Titanium Nitride Sputtering Target proporcionam um acabamento uniforme e clássico amarelo-dourado caracterizado por uma clareza excepcional, totalmente livre de defeitos de neblina ou partículas.Engenharia para longevidade, a superfície é altamente resistente ao desbotamento e aos arranhões, garantindo uma aparência intocada mesmo sob uso rigoroso e prolongado.Cumprindo as normas ambientais RoHS e aumentando a eficiência da produção em mais de 30%.

Eu... Fabricação de semicondutores

Os revestimentos de TiN são totalmente compatíveis com nós avançados abaixo de 7 nm,que suportam os requisitos de fabricação de semicondutores mais rigorosos e podem atingir taxas de rendimento de semicondutores de ≥ 98%, proporcionando simultaneamente um aumento de 25% na eficiência da produção em massa para o sector da electrónica de consumo.

Eu... Campo óptico

O TiN garante uma clareza de imagem superior e alta transmissão de luz em todos os dispositivos ópticos.fornecendo a capacidade de grande volume necessária para processar milhares de componentes ópticos de precisão por dia.