Titanyum Oksit Döner Püskürtme Hedefi (Tiox Püskürtme Hedefi)

Titanyum oksit Sputtering hedefleri yüksek saflıkta titanyum dioksitten (TiOx) yapılmış seramik hedeflerdir, sıcak basınçlı sinterleme veya soğuk izostatik basınç gibi süreçlerle üretilmiştir.Yüksek sertlik gibi özelliklere sahiptir., yüksek erime noktası (yaklaşık 1855 ° C) ve mükemmel kimyasal kararlılık, optik ve fonksiyonel filmler üretmek için manyetron püskürtmesi için önemli bir malzeme haline getirir.

Titanyum Oksit Sputtering Hedefinin (TiOx) Önemli Özellikleri

Ben... Yüksek Saflık Film Kalitesini Sağlar

Titanyum oksit hedefleri tipik olarak% 99,9'luk bir saflığa sahiptir ve çok düşük kirlilik içeriğine sahiptir, film kusurlarını etkili bir şekilde azaltır ve optik ve elektrik performans istikrarını iyileştirir.

Ben... Mükemmel Kimyasal Dayanıklılık

Titanyum oksit püskürtme hedefleri asit ve alkali korozyona dayanıklıdır, yüksek sıcaklık ve yüksek nem gibi sert ortamlarda istikrarlı performans sağlar.Filmlerin ömrünü uzatır..

Ben... Olağanüstü Optik Özellikler

Yüksek kırılma endeksi ve mükemmel geçirgenliğe sahiptir, bu da yansıma karşıtı kaplamalar (AR), parlama karşıtı kaplamalar vb. için uygun yüksek performanslı optik filmlerin üretilmesini sağlar.

Ben... Yoğun ve Ünlü Mikrostructure

Gelişmiş şekillendirme ve sinterleme işlemleri kullanılarak, titanyum oksit hedefi malzemesi, istikrarlı film çökme oranını ve iyi kalınlık tutarlılığını sağlayan ince ve tek tip parçacıklara sahiptir.

Ben... İyi mekanik dayanıklılık ve ısıya direnç

1855 °C civarında bir erime noktasına sahip olan titanyum oksit hedefleri, yüksek güçli püskürtme koşullarında çatlamaya veya hasara dayanıklıdır ve bu nedenle uzun süreli sürekli üretim için uygundur.

Titanyum Oksit Sputtering Hedefinin (TiOx) Geniş Uygulamaları

Ben... Optik cihaz üretimi

Titanyum oksit hedefleri, optik lensler, yansıma karşıtı kaplamalar (AR kaplamalar), parlama karşıtı filmler ve optik filtreler için yüksek kırılma endeksi filmleri üretmek için kullanılır.Işık geçirgenliğini ve görüntü kalitesini iyileştirmek.

Ben... Fotovoltaik Endüstrisi

Şeffaf iletken filmlerde (TCO) koruyucu veya işlevsel katmanlar olarak kullanılan titanyum oksit hedefleri ışık emicilik verimliliğini ve cihaz istikrarını artırır.Güneş hücreleri ve fotokatalitik filmlerin üretiminde yaygın olarak kullanılır.

Ben... Yarım iletken üretimi

Titanyum oksit Sputtering hedefleri, çiplerin ve elektronik cihazların istikrarını ve yalıtım performansını iyileştirmek için dielektrik katmanlar, koruyucu filmler ve yalıtım malzemeleri olarak kullanılır.

Ben... Düşük Emisyonlu (Low-E) Enerji tasarruflu Cam

Titanyum oksit hedefleri, camın ısı yalıtımını ve ışık geçirgenliğini iyileştirmek için tasarlanmış kilit fonksiyonel katman malzemeleri olarak hizmet eder.gelişmiş bina enerji tasarrufu çözümlerinde yaygın uygulamalarına yol açan.