Target Sputtering Titanium Borida (Target Sputtering Keramik TiB2)

Target Sputtering Titanium Borida adalah target keramik yang diproduksi dari bubuk TiB₂ dengan kemurnian tinggi melalui proses hot pressing atau sintering. Mereka adalah material fungsional dengan titik leleh tinggi dan kekerasan tinggi. Dengan menggabungkan stabilitas kimia yang sangat baik dari titanium metalik dengan kekerasan tinggi, ketahanan aus, dan ketahanan korosi dari borida, target TiB₂ menawarkan kinerja yang luar biasa. Target ini banyak digunakan dalam berbagai proses pelapisan, termasuk deposisi uap fisik (PVD), sputtering magnetron, dan deposisi uap kimia (CVD), memungkinkan deposisi film tipis keramik berkinerja tinggi pada berbagai substrat.

Properti Unggul Target Sputtering Titanium Borida

l Kekerasan dan Ketahanan Aus Ultra-tinggi

Film yang dideposisikan dapat mencapai kekerasan Vickers melebihi 3000 HV, secara signifikan meningkatkan ketahanan gores permukaan dan ketahanan aus.

l Ketahanan Korosi dan Oksidasi yang Sangat Baik

Film tetap stabil di lingkungan asam, basa, dan oksidatif suhu tinggi, menahan reaksi dan degradasi, membuatnya cocok untuk lapisan pelindung dalam kondisi operasi yang keras.

l Konduktivitas Listrik dan Termal yang Baik

Berbeda dengan keramik konvensional, titanium diborida menunjukkan tingkat konduktivitas listrik dan termal yang patut diperhatikan. Properti unik ini membuatnya cocok untuk lapisan fungsional canggih yang membutuhkan kekerasan luar biasa dan kemampuan konduktif.

l Adhesi dan Kepadatan Film yang Baik

Penggunaan Target Sputtering Titanium Borida dengan kemurnian tinggi memungkinkan pembentukan film yang padat dan seragam dengan adhesi yang kuat, meningkatkan konsistensi dan keandalan produk.

Aplikasi Luas Target Sputtering Titanium Borida

l Display Panel

Dalam pembuatan layar kelas atas seperti LCD, OLED, dan Mini/Micro-LED, target indium cerium oxide dapat di-sputter untuk membentuk film konduktif transparan dengan transmisi tinggi dan resistivitas rendah untuk elektroda panel layar dan interkoneksi, secara signifikan meningkatkan keseragaman kecerahan, kontras, dan masa pakai.

l Teknologi Layar Sentuh

Dalam produk sentuh seperti smartphone, tablet, layar otomotif, dan panel kontrol industri, film titanium diborida dapat menggantikan film ITO tradisional sebagai elektroda sentuh, memberikan respons lebih cepat, transmisi lebih baik, dan kompatibilitas fleksibilitas yang ditingkatkan, mendukung bezel sempit dan desain layar sentuh ukuran besar.

 l Industri Fotovoltaik

Dalam sel surya berefisiensi tinggi seperti sel tandem HJT dan perovskite, mereka digunakan sebagai material elektroda konduktif transparan untuk mengurangi resistansi seri, meningkatkan efisiensi konversi fotoelektrik, dan meningkatkan stabilitas, menyediakan solusi konduktif berkinerja lebih tinggi untuk modul fotovoltaik generasi berikutnya.

l Elektronik Fleksibel

Target Sputtering Titanium Borida dapat di-sputter pada substrat fleksibel seperti poliimida (PI) dan PET untuk membentuk elektroda transparan fleksibel, diterapkan pada produk yang sedang berkembang seperti layar lipat, perangkat yang dapat dikenakan, dan sensor fleksibel.

l Manufaktur Perangkat Optik

Mereka digunakan untuk melapisi kaca optik, tumpukan film optik, filter, dan lapisan anti-refleksi, mempertahankan transmisi tinggi sambil memberikan sifat konduktif atau antistatik, cocok untuk bidang optik presisi seperti komunikasi optik dan penginderaan optik.