Company
Produk
bahan target sputtering
Target Sputtering Silikon (Target Sputtering Si)
Target sputtering tembaga Tiongkok (target sputtering Cu)
Target Sputtering Indium Timah Oksida (ITO).
Target Sputter Titanium Kemurnian Tinggi (Target Sputter Ti)
Target Keramik
Target Sputtering Aluminium Oksida Kemurnian Tinggi (Target Sputtering Al₂O₃)
Target Sputtering Seng Tellurida (ZnTe) Untuk Bahan Pelapis
Target Sputtering Seng Oksida (Target Sputtering ZnO)
Target Sputtering Indium Cerium Oksida (Target Sputtering ICO)
Target Sputtering Resistensi Tinggi (GXO Sputtering Target)
Target Sputtering Silikon Karbida (Target Sputtering SiC)
Target Metal Sputtering
Target Sputtering Hafnium (Hf)
Target Sputtering Tungsten (W) untuk Pelapisan PVD
Target Sputtering Seng (Target Sputtering Zn) Bahan Film Tipis
Target Sputtering Zirkonium Kemurnian Tinggi (Target Sputtering Zr)
Target Metal Keras Tinggi Sputtering Resistensi Pakai WC Tungsten Carbon Target
Target Sputtering Aluminium Titanium Kemurnian Tinggi (Target Sputtering TiAl)
Sasaran Penyemprotan Bumi Langka
Target Sputtering Terbium Kemurnian Tinggi (Target Sputtering Tb)
Tujuan Sputtering Dy Dysprosium Keurnian Tinggi Untuk Film Magnetik Lapisan Optik
Bahan Penguapan
Aluminium Silikon Campuran Bahan logam Target Powder Metallurgy Hot Pressing Sintering
Target Sputtering Kuarsa Berbentuk Cincin SiO2 Untuk Pelapisan Vakum
Bahan Evaporasi Anorganik Niobium Oksida Nb2O5 Dengan Indeks Refraksi Tinggi
Bahan Sputtering Evaporasi Film Tipis Dalam Blok Indium
Tinggi kemurnian tantalum pentoksida Ta2O5 Untuk perangkat optik Semikonduktor
Bahan penguapan logam transisi titanium pentoxide Ti3O5
Layanan Pengikatan Target Sputtering
Layanan Pengikatan Target Planar Untuk Bidang Pelapisan PVD
Ikatan Perekat Pelat Pendukung Target Sputtering Saluran Air Presisi ＞98%
Layanan Ikatan Target Sputtering Lini Produksi Pelapisan Ikatan Target Rotary
1
