| Nama merek: | APG |
| Waktu Pengiriman: | 4-5 minggu |
| Ketentuan Pembayaran: | T/T |
Target Sputtering Karbida Kromium adalah senyawa yang terbentuk dari kromium (Cr) dan karbon (C), menggabungkan konduktivitas listrik logam dengan kekerasan keramik yang tinggi. Dibuat dari bubuk karbida kromium dengan kemurnian tinggi melalui proses seperti sintering hot-pressing atau penyemprotan, target karbida kromium menunjukkan titik leleh tinggi, kekuatan tinggi, dan stabilitas termal yang sangat baik.
Dalam proses pelapisan seperti sputtering magnetron dan deposisi uap fisik (PVD), target karbida kromium memfasilitasi laju deposisi yang tinggi, menghasilkan lapisan tipis yang padat dan seragam dengan adhesi superior. Lapisan ini dicirikan oleh kekerasan yang luar biasa, ketahanan aus yang unggul, dan ketahanan korosi yang tinggi, secara efektif memperpanjang masa pakai dan stabilitas kinerja substrat.
Dengan sifat komprehensifnya yang superior, target sputtering karbida kromium banyak digunakan dalam manufaktur kelas atas, kedirgantaraan, elektronik, dan bidang lainnya.
l Kekerasan & Ketahanan Aus Tinggi, Kinerja Perlindungan Lapisan Tipis yang Unggul
Sebagai material super-keras terkemuka, lapisan CrC menawarkan ketahanan aus 5 hingga 10 kali lebih besar daripada lapisan logam konvensional seperti Kromium (Cr) atau Nikel (Ni). Ketika diterapkan pada alat potong, cetakan, dan komponen mekanis, ini secara signifikan meningkatkan ketahanan aus dan sifat anti-seizure, memperpanjang masa pakai suku cadang sebesar 300% hingga 500%. Ini direkayasa khusus untuk lingkungan aus ekstrem, termasuk pemesinan berkecepatan tinggi dan aplikasi gesekan kering.
l Ketahanan Suhu Tinggi & Oksidasi, Beradaptasi dengan Lingkungan Keras
Target sputtering karbida kromium memiliki ketahanan oksidasi yang sangat baik dan dapat menahan lingkungan keras seperti gas suhu tinggi, logam cair, dan radiasi termal, mengatasi masalah kegagalan oksidasi dan korosi suhu tinggi pada material tradisional.
l Stabilitas Kimia Luar Biasa, Ketahanan Korosi Superior
Memiliki toleransi yang baik, tidak bereaksi dengan sebagian besar logam dan non-logam, dan tidak rentan terhadap oksidasi, karat, atau degradasi.
l Kinerja Sputtering Stabil, Lapisan Tipis Berkualitas Tinggi
Laju Deposisi Tinggi: Di bawah parameter sputtering frekuensi radio konvensional, laju deposisi mencapai 50-150 nm/jam (hingga 120-200 nm/jam untuk target Spark Plasma Sintering (SPS) kelas atas), lebih tinggi daripada target keramik serupa, membuatnya cocok untuk produksi industri massal.
l Lapisan Alat Karbida Semen
Lapisan CrC memperpanjang masa pakai alat 3 hingga 5 kali, mengurangi gaya potong lebih dari 30%, dan beroperasi secara efektif pada suhu pemotongan hingga 800–1000°C. Properti ini menjadikannya ideal untuk pemrosesan efisien dalam jalur produksi otomatis yang menuntut, seperti pemotongan massal komponen otomotif dan pemesinan presisi suku cadang struktural kedirgantaraan.
l Lapisan untuk Komponen Mesin Kedirgantaraan
Aplikasi Khusus Target Sputtering Karbida Kromium: Komponen suhu tinggi seperti bilah turbin, ruang bakar, sudu pemandu, cakram turbin, dan nosel bahan bakar.
CrC tahan terhadap pengikisan gas suhu tinggi, korosi panas, dan keausan, meningkatkan efisiensi termal dan keandalan mesin, memperpanjang masa pakai komponen 2-3 kali, dan mengurangi biaya operasi dan perawatan kedirgantaraan.
l Pengemasan Semikonduktor & Lapisan Pelindung
Melindungi chip dari kelembaban, debu, korosi kimia, dan goresan mekanis, memastikan kinerja listrik perangkat yang stabil, dan meningkatkan hasil produk semikonduktor.
l Lapisan untuk Transmisi Minyak & Gas dan Peralatan Kimia
Lapisan CrC secara efektif mengatasi tantangan kritis korosi dan keausan pada pipa dan peralatan industri. Dengan memperpanjang masa pakai 5 hingga 10 tahun dan secara signifikan mengurangi risiko kebocoran, dan direkayasa untuk lingkungan yang paling menuntut, termasuk ekstraksi minyak dan gas laut dalam dan transmisi media kimia yang sangat korosif.