Target Sputtering Titanium Nitrida Untuk Lapisan Keras (Target Sputtering Timah)

Target Sputtering Titanium Nitride adalah salah satu target fungsional logam-keramik yang paling banyak digunakan secara global. Target ini menggabungkan konduktivitas listrik dan termal logam dengan kekerasan tinggi dan ketahanan korosi keramik. Melalui proses seperti magnetron sputtering, film fungsional yang seimbang dapat diendapkan. Film-film ini memberikan perlindungan aus yang penting untuk manufaktur mekanis, memenuhi persyaratan fungsional presisi tinggi elektronik semikonduktor, dan mengintegrasikan daya tarik estetika dengan perlindungan yang kuat untuk aplikasi dekoratif. Target ini banyak digunakan di bidang manufaktur kelas atas seperti permesinan, elektronik, dekorasi, kedirgantaraan, dan energi baru, menjadikannya bahan inti yang serbaguna di berbagai industri.

Properti Unggul Target Sputtering Titanium Nitride

l Kepadatan Sangat Baik

Kepadatan relatif ≥98%, dengan ukuran butir yang terdistribusi merata antara 3-10 μm, mengurangi pelepasan busur selama sputtering dan meningkatkan keseragaman komposisi film.

l Tingkat Deposisi Tinggi, Tanpa Kabut

Tingkat deposisi tinggi yang dioptimalkan memaksimalkan efisiensi, memastikan film tetap jernih dengan penampilan dan kepadatan yang terjamin.

l Sangat Keras dan Tahan Aus

Target sputtering titanium nitrida ini menawarkan kekerasan yang konsisten dan kuat lebih dari 1800 HV (kekerasan Vickers). Target ini memberikan ketahanan aus yang 4 hingga 8 kali lebih besar daripada film logam konvensional sambil mempertahankan ketangguhan penting untuk secara aktif mencegah keretakan film dan memastikan integritas lapisan.

l Resistivitas Listrik Rendah

Resistivitas suhu ruangan ≤150 μΩ·cm, jauh melampaui target keramik tradisional, menjadikannya cocok untuk gerbang semikonduktor, lapisan pembuangan panas, dan aplikasi konduktif/termal konduktif lainnya.

l Warna Dapat Disesuaikan

Secara alami berwarna emas, warna dapat disesuaikan menjadi hitam, abu-abu, dan warna lain melalui optimasi proses, memenuhi kebutuhan dekoratif kelas atas.

Aplikasi Luas Target Sputtering Titanium Nitride

l Lapisan Keras

Lapisan Target Sputtering Titanium Nitride memberikan hasil akhir kuning keemasan klasik yang seragam yang ditandai dengan kejernihan luar biasa, sepenuhnya bebas dari kabut atau cacat partikulat. Direkayasa untuk daya tahan, permukaannya sangat tahan terhadap pemudaran dan goresan, memastikan penampilan yang murni bahkan di bawah penggunaan yang ketat dan jangka panjang. Lapisan ini mematuhi standar lingkungan RoHS dan meningkatkan efisiensi produksi lebih dari 30%.

l Manufaktur Semikonduktor

Memastikan transmisi sinyal yang stabil dalam perangkat elektronik dan memperpanjang masa pakai. Lapisan TiN sepenuhnya kompatibel dengan node canggih di bawah 7nm, mendukung persyaratan fabrikasi semikonduktor yang paling ketat dan dapat mencapai tingkat hasil semikonduktor ≥98%, sambil secara bersamaan memberikan peningkatan efisiensi produksi massal sebesar 25% untuk sektor elektronik konsumen.

l Bidang Optik

TiN memastikan kejernihan gambar yang unggul dan transmisi cahaya tinggi di semua perangkat optik. Dengan meminimalkan cacat partikulat, target ini secara signifikan meningkatkan tingkat hasil lensa, menyediakan kapasitas volume tinggi yang diperlukan untuk memproses ribuan komponen optik presisi per hari.