Target Sputtering Putar Titanium Oksida (Target Sputtering Tiox)

Target Sputtering Titanium Oksida adalah target keramik yang terbuat dari titanium dioksida (TiOx) dengan kemurnian tinggi, diproduksi melalui proses seperti sintering hot-press atau pengepresan isostatik dingin. Material ini memiliki karakteristik seperti kekerasan tinggi, titik leleh tinggi (sekitar 1855°C), dan stabilitas kimia yang sangat baik, menjadikannya material penting untuk sputtering magnetron guna menghasilkan film optik dan fungsional.

Properti Unggul Target Sputtering Titanium Oksida (TiOx)

l Kemurnian Tinggi Memastikan Kualitas Film

Target titanium oksida biasanya memiliki kemurnian ≥ 99,9%, dengan kandungan pengotor yang sangat rendah, secara efektif mengurangi cacat film dan meningkatkan stabilitas kinerja optik dan listrik.

l Stabilitas Kimia Unggul

Target sputtering titanium oksida tahan terhadap korosi asam dan alkali, mempertahankan kinerja yang stabil di lingkungan yang keras seperti suhu tinggi dan kelembaban tinggi, yang memperpanjang masa pakai film.

l Properti Optik Unggul

Memiliki indeks bias tinggi dan transmisi yang sangat baik, memungkinkan produksi film optik berkinerja tinggi yang cocok untuk lapisan anti-refleksi (AR), lapisan anti-silau, dll.

l Mikrostruktur Padat dan Seragam

Menggunakan proses pembentukan dan sintering canggih, material target titanium oksida memiliki partikel halus dan seragam, memastikan laju deposisi film yang stabil dan konsistensi ketebalan yang baik.

l Kekuatan Mekanik dan Ketahanan Panas yang Baik

Dengan titik leleh sekitar 1855°C, target titanium oksida tahan terhadap keretakan atau kerusakan di bawah kondisi sputtering daya tinggi, menjadikannya cocok untuk produksi berkelanjutan jangka panjang.

 Aplikasi Luas Target Sputtering Titanium Oksida (TiOx)

l Manufaktur Perangkat Optik

Target titanium oksida digunakan untuk memproduksi film indeks bias tinggi untuk lensa optik, lapisan anti-refleksi (Lapisan AR), film anti-silau, dan filter optik, meningkatkan transmisi cahaya dan kualitas gambar.

l Industri Fotovoltaik

Digunakan sebagai lapisan pelindung atau fungsional dalam film konduktif transparan (TCO), target titanium oksida meningkatkan efisiensi penyerapan cahaya dan stabilitas perangkat, banyak digunakan dalam produksi sel surya dan film fotokatalitik.

l Manufaktur Semikonduktor

Target sputtering titanium oksida digunakan sebagai lapisan dielektrik, film pelindung, dan bahan isolasi untuk meningkatkan stabilitas dan kinerja isolasi chip dan perangkat elektronik.

l Kaca Hemat Energi Emisi Rendah (Low-E)

Target titanium oksida berfungsi sebagai material lapisan fungsional utama yang dirancang untuk meningkatkan insulasi panas dan transmisi cahaya kaca. Properti ini secara efektif mengurangi konsumsi energi, yang mengarah pada aplikasi luasnya dalam solusi hemat energi bangunan canggih.