ハードコート用窒化チタンスパッタリングターゲット（TiNスパッタリングターゲット）

窒化チタンスパッタリングターゲットは、世界で最も広く使用されている金属セラミック機能ターゲットの1つです。金属の電気伝導性と熱伝導性を、セラミックの高い硬度と耐食性と組み合わせています。マグネトロンスパッタリングなどのプロセスにより、バランスの取れた機能膜を成膜できます。これらの膜は、機械製造に不可欠な耐摩耗性を提供し、半導体エレクトロニクスの高精度な機能要件を満たし、装飾用途では審美性と堅牢な保護をシームレスに統合します。機械、エレクトロニクス、装飾、航空宇宙、新エネルギーなどのハイエンド製造分野で広く使用されており、産業全体で汎用性の高いコア材料となっています。

窒化チタンスパッタリングターゲットの優れた特性

l 優れた密度

相対密度 ≥98%、粒径は3-10 μmで均一に分布しており、スパッタリング中のアーク放電を低減し、膜組成の均一性を向上させます。

l 高い成膜速度、フォギングなし

最適化された高い成膜速度は効率を最大化し、外観と密度の両方が保証されたクリアな膜を維持します。

l 超硬質で耐摩耗性

この窒化チタンスパッタリングターゲットは、1800 HV（ビッカース硬度）を超える一貫した堅牢な硬度を提供します。従来の金属膜と比較して4〜8倍の耐摩耗性を提供しながら、膜のひび割れを積極的に防止し、コーティングの完全性を確保するために不可欠な靭性を維持します。

l 低い電気抵抗率

室温での抵抗率 ≤150 μΩ·cmで、従来のセラミックターゲットをはるかに超えており、半導体ゲート、放熱コーティング、その他の導電性/熱伝導性用途に適しています。

l 調整可能な色

自然な金色ですが、プロセス最適化により黒、灰色などの色に調整でき、ハイエンドの装飾ニーズに対応します。

窒化チタンスパッタリングターゲットの幅広い用途

l 硬質コーティング

窒化チタンスパッタリングターゲットコーティングは、フォギングや粒子欠陥が全くない、均一でクラシックな金色黄色の仕上げを提供します。長寿命のために設計されており、表面は色あせと傷の両方に非常に強く、過酷で長期的な使用でも pristine な外観を保証します。RoHS環境基準に準拠しており、生産効率を30%以上向上させます。

l 半導体製造

電子機器の安定した信号伝送を保証し、寿命を延ばします。TiNコーティングは、7nm未満の高度なノードと完全に互換性があり、最も厳しい半導体製造要件をサポートし、半導体歩留まり ≥98%を達成すると同時に、コンシューマーエレクトロニクス分野で量産効率を25%向上させることができます。

l 光学分野

TiNは、すべての光学デバイスで優れた画像鮮明度と高い光透過率を保証します。粒子欠陥を最小限に抑えることで、レンズの歩留まりを大幅に向上させ、1日あたり数千個の精密光学部品を処理するために必要な大量処理能力を提供します。