Company
製品
スパッタリングターゲット材
半導体製造のための高純度スプッティングターゲット材料
中国製銅スパッタリングターゲット(Cuスパッタリングターゲット)
インジウムスズ酸化物 (ITO) スパッタリングターゲット
高純度チタンスパッタターゲット（Tiスパッタターゲット）
セラミックターゲット
高純度酸化アルミニウムスパッタリングターゲット(Al₂O₃スパッタリングターゲット)
亜鉛テルリード (ZnTe) のスプッティング標的
酸化亜鉛スパッタリングターゲット(ZnOスパッタリングターゲット)
インジウムセリウム酸化物スパッタリングターゲット(ICOスパッタリングターゲット)
高抵抗スパッタリングターゲット (GXOスパッタリングターゲット)
炭化ケイ素スパッタリングターゲット（SiCスパッタリングターゲット）
金属スパッタリングターゲット
ハフニウムスパッタリングターゲット (Hf)
PVDコーティング用のウルガムスプッティングターゲット (W)
亜鉛スパッタリングターゲット(Znスパッタリングターゲット)薄膜材料
高純度ジルコニウムスパッタリングターゲット（Zrスパッタリングターゲット）
高硬度金属スパッタリングターゲット 耐摩耗性 WC タングステン炭化物ターゲット
高純度チタンアルミニウムスパッタリングターゲット（TiAlスパッタリングターゲット）
蒸発材料
アルミニウムシリコン混合金属材料ターゲット粉末冶金熱間プレス焼結
リング状のクォーツ SiO2 スプッティング標的 真空コーティング
不有機蒸発材料 高屈折率のニオビウム酸化物 Nb2O5
インディアムブロックにおける薄膜蒸発スプッター材料
高純度タンタル五酸化物 Ta2O5 オプティカルデバイス半導体用
トランジション金属酸化物蒸発材料 チタンペントキシド Ti3O5
1
