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スパッタリングターゲット材
ITOスパッタリングターゲット材 インジウムスズ酸化物ターゲット ディスプレイトテクノロジー用
半導体製造のための高純度スプッティングターゲット材料
カスタム / プラナー / ロータリー Cu スパッタリング用銅ターゲット
99.5% - 99.95% 純度チタン スパッタリングターゲット 耐食性 Tiターゲット
セラミックターゲット
オプトエレクトロニクス分野向け高純度酸化チタンTiOxセラミックターゲット
インディウム亜鉛酸化物 IZO ターゲット素材 ディスプレイ技術
硬質コーティング用TiN窒化チタンスパッタリングターゲット
PVDコーティング用CrC炭化クロムスパッタリングターゲット 耐食性
チタンボリド TiB2 陶磁スプッティングターゲット
日光電池のためのニオックス・ニッケル・オキシド標的材料
金属スパッタリングターゲット
マグネトロンスパッタリング蒸着イオンプレーティング用PTプラチナターゲット
調整可能なサイズ クロム標的 回転/平面 Cr スプッターターターゲット
フラット/回転式AlScアルミニウムスカンジウムスパッタリングターゲット
インディウムチンの標的 INSn合金スプッターターゲットの調整可能な比率
アルミネオジミウム AINd ターゲット オプトエレクトロニクス産業
合金ターゲット ニッケルクロムターゲット プレス焼結 NiCrターゲット
蒸発材料
アルミニウムシリコン混合金属材料ターゲット粉末冶金熱間プレス焼結
リング状のクォーツ SiO2 スプッティング標的 真空コーティング
不有機蒸発材料 高屈折率のニオビウム酸化物 Nb2O5
インディアムブロックにおける薄膜蒸発スプッター材料
高純度タンタル五酸化物 Ta2O5 オプティカルデバイス半導体用
トランジション金属酸化物蒸発材料 チタンペントキシド Ti3O5
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