クロムスプッターターゲット (Crスプッターターゲット),純度:990.5%~99.95%

クロムは、高い硬度と耐食性で知られる銀白色の遷移金属です。ステンレス鋼、高強度合金、電気めっきに広く使用されています。薄膜技術およびマイクロエレクトロニクスでは、クロムスパッタリングターゲットは、機能性および保護性クロムコーティングを堆積させるための材料源を提供し、膜の均一性と一貫したコーティング品質をサポートします。
当社のクロムスパッタリングターゲットは、さまざまな装置仕様および成膜要件に対応するため、ロータリーおよびプラナー構成で利用可能です。

製品オプション

ロータリークロムターゲット

クロムロータリーターゲットは、高度な溶射プロセスを使用して製造され、相対密度 95% を達成しています。この製造方法により、効率的な製造と短いリードタイムがサポートされ、大規模な運用にコスト上の利点を提供します。

これらのターゲットは、最大 4,000 mm の長さで製造でき、さまざまな工業用コーティングシステムに対応できます。

プラナークロムターゲット

プラナークロムターゲットは、制御された熱間プレス、焼結、および接合プロセスを通じて製造され、超低酸素含有量をもたらし、明るいクロム膜の堆積をサポートします。

寸法は、特定の装置要件および顧客仕様に合わせてカスタマイズできます。

クロムスパッタリングターゲットの優れた特性

l 高い硬度、高い密着性

堆積されたクロム膜は、適切に処理された基材に対して高い硬度と強力な密着性を提供します。これらの特性は、耐摩耗性を向上させ、過酷な機械的条件下でのコーティング耐久性を維持するのに役立ちます。

l 強力な耐食性

クロム膜は耐食性および耐酸化性を提供し、過酷な作業環境でコーティングされた表面を保護するのに役立ちます。性能は、コーティング構造、成膜条件、および化学的暴露によって異なります。

l 良好な電気伝導率と熱安定性

クロムの電気伝導率と熱特性は、電子部品の機能性薄膜や高温を伴う用途での使用をサポートします。

クロムスパッタリングターゲットの幅広い用途

l 半導体製造

クロムスパッタリングターゲットは、半導体部品および電子パッケージ用の機能性および保護性膜を堆積するために使用されます。適切なコーティング設計は、表面の耐久性、引っかき傷や腐食への耐性を向上させるのに役立ち、精密電子部品の信頼性をサポートします。

l 装飾コーティング

クロムスパッタリングターゲットは、時計、家電製品、その他の消費者製品の真空コーティングプロセスで使用されます。堆積された膜は、視覚的な魅力と耐食性および表面保護を組み合わせた明るい金属光沢を作成します。