اهداف کندوپاش اکسید روی (هدف کندوپاش اکسید روی)

اهداف اسپتر کردن اکسید روی مواد کلیدی برای تولید کارآمد فیلم نازک هستند که به طور گسترده ای در فرآیند رسوب بخار فیزیکی (PVD) استفاده می شود.اکسید روی یک منبع مواد کارآمد و یکنواخت فراهم می کندزینک اکسید (ZnO) یک پودر سفید با خواص الکتریکی و نوری برجسته است.انتخاب اکسید روی به عنوان یک ماده هدف عمدتا بر اساس ثبات شیمیایی منحصر به فرد و خواص فیزیکی عالی آن استاین ویژگی ها آن را قادر می سازد تا در طول تولید در محیط های سپرده گذاری انرژی بالا مقاومت کند، در حالی که پاکسازی شیمیایی و یکپارچگی ساختاری خود را حفظ می کند.

خواص برجسته اهداف اسپوتری اکسید روی

من خلوص بالا عملکرد فیلم را تضمین می کند

هدف های اسپتر آکسید روی می توانند بیش از 99.99٪ پاکی را با محتوای کم ناخالصی به دست آورند، اطمینان حاصل شود که فیلم های نازک اسپتر شده دارای خواص الکتریکی و نوری عالی هستند.

من انتقال نوری عالی

انتقال نوری در محدوده نور قابل مشاهده می تواند بیش از 80٪ باشد، که آن را برای آماده سازی فیلم های نوری شفاف و فیلم های رسانا شفاف مناسب می کند.

من رسانایی خوب (دوبال)

با استفاده از عناصر مانند Al، Ga و B، مقاومت می تواند به طور قابل توجهی کاهش یابد، و آن را به یک جایگزین سازگار با محیط زیست برای فیلم های رسانای شفاف ITO تبدیل می کند.

من ثبات شیمیایی عالی

مقاومت در برابر خوردگی اسید و قلیایی، حفظ عملکرد پایدار در محیط های با دمای بالا و رطوبت بالا.

کاربرد های گسترده ای ازاهداف اسپوتینگ اکسید روی

من صفحه نمایش

هدف های اسپتر آکسید روی می توانند برای تولید فیلم های شفاف و رسانا استفاده شوند (به جای ITO). با انتقال نوری عالی ، مقاومت پایین و ثبات شیمیایی ،اهداف اسپوتینگ اکسید روی می تواند یکسانی روشنایی را بهبود بخشد، سرعت پاسخ و طول عمر نمایشگرها.

من تولید دستگاه های نوری

هدف های اسپوتری اکسید روی برای ساخت دستگاه های مختلف اپتو الکترونیک مانند دی ال و دیود های لیزر استفاده می شود.خواص نوری و رسانایی فیلم های اکسید روی بسیار مهم است.بنابراین، شرایط رسوب (مانند دمای، فشار و سرعت رسوب) باید به دقت کنترل شود.

من صنعت خورشیدی

هدف های اسپتر آکسید روی نقش کلیدی در تولید سلول های خورشیدی با ارائه فیلم های بسیار شفاف و رسانا که اغلب جایگزین لایه های سنتی آکسید قلعین ایندیوم (ITO) می شوند.این کاربرد به ویژه در تولید سلول های خورشیدی دارای فیلم نازک بسیار مهم است.، جایی که بهینه سازی شفافیت و رسانایی لایه اکسید روی مستقیماً کارایی کلی دستگاه را تعیین می کند.