Company
محصولات
کندوپاش مواد هدف
هدف سیلیکون (Si Sputtering Target)
اهداف کندوپاش مس چینی (اهداف کندوپاش مس)
ایندیم قلع اکسید (ITO) هدف کندوپاش
هدف پراکنده تیتانیوم با خلوص بالا (Ti Sputter Target)
اهداف سرامیکی
اهداف کندوپاشی اکسید آلومینیوم با خلوص بالا (هدف کندوپاش Al2O3)
هدف های اسپوتری زنک تلورید (ZnTe) برای مواد پوشش
اهداف کندوپاش اکسید روی (هدف کندوپاش اکسید روی)
اهداف کندوپاش ایندیوم سریم اکسید (اهداف کندوپاش ICO)
هدف اسپوتینگ با مقاومت بالا (GXO Sputtering Target)
اهداف کندوپاش کاربید سیلیکون (هدف کندوپاش SiC)
هدف پراکندگی فلز
اهداف اسپتر کردن هافنیوم (Hf)
اهداف اسپاترینگ تنگستن (W) برای پوشش PVD
هدف کندوپاش روی (هدف کندوپاش روی) مواد لایه نازک
اهداف کندوپاش زیرکونیوم با خلوص بالا (هدف کندوپاش Zr)
هدف اسپاترینگ فلزی با سختی بالا، مقاوم در برابر سایش، هدف تنگستن کربن WC
اهداف کندوپاش آلومینیوم تیتانیوم با خلوص بالا (هدف کندوپاش TiAl)
هدف اسپتر کردن زمین های نادر
اهداف کندوپاش تربیوم با خلوص بالا
هدف اسپتر کردن دی دیسپروسیوم با خلوص بالا برای فیلم های مغناطیسی پوشش نوری
مواد تبخیر
پودر متالورژی پرس داغ تف جوشی هدف مواد فلزی مخلوط آلومینیوم سیلیکون
هدف اسپتر کردن سی او 2 کوارتز به شکل حلقه ای برای پوشش خلاء
مواد تبخیر غیر آلی اکسید نیوبیوم Nb2O5 با ضریب شکست بالا
مواد اسپوتر در بلوک ایندیوم
پنتوکسید تانتالیوم با طهارت بالا Ta2O5 برای نیمه هادی دستگاه نوری
مواد تبخیر اکسید فلز انتقالی پنتوکسید تیتانیوم Ti3O5
خدمات اتصال اهداف اسپاترینگ
خدمة ربط الأهداف المسطحة لمجال الطلاء PVD
چسبندگی اتصال صفحات پشتی هدف پاشش کانال آب دقیق > 98%
خط تولید پوشش خدمات اتصال هدف اسپترینگ اتصال هدف چرخش
1
