جزئیات محصولات
|
هدف کندوپاش دوار اکسید تیتانیوم (هدف کندوپاش Tiox)
| نام تجاری: | APG |
| زمان تحویل: | 4-5 هفته |
| شرایط پرداخت: | T/T |
هدف کندوپاش چرخشی اکسید تیتانیوم,هدف کندوپاش اکسید تیتانیوم,هدف TiOx
,خلوص بالا
,TiOx Target High Purity
هدف های Sputtering هدف های سرامیکی ساخته شده از دی اکسید تیتانیوم (TiOx) با طهارت بالا، تولید شده از طریق فرآیندهایی مانند سینتر کردن پرینس گرم یا پرینس ایزواستاتیک سرد است.ویژگی هایی مثل سختی بالایی دارد، نقطه ذوب بالا (حدود 1855 ° C) ، و ثبات شیمیایی عالی، آن را به یک ماده مهم برای اسپتر کردن ماگنترون برای تولید فیلم های نوری و کاربردی تبدیل می کند.
خواص برجسته هدف اسپتر کردن اکسید تیتانیوم (TiOx)
من پاک بودن بالا کیفیت فیلم را تضمین می کند
اهداف اکسید تیتانیوم به طور معمول دارای طهارت ≥ 99.9٪ با محتوای بسیار کم ناخالصی هستند، به طور موثر نقایص فیلم را کاهش می دهند و ثبات عملکرد نوری و الکتریکی را بهبود می بخشند.
من ثبات شیمیایی عالی
تيتانيوم اكسيد هدف اسپترنگ مقاوم در برابر خوردگي اسيد و قند است، عملکرد ثابت را در محیط های خشن مانند دما و رطوبت بالا حفظ می کند،که طول عمر فیلم ها را افزایش می دهد.
من خواص نوری برجسته
این ماده دارای شاخص انكساری بالا و انتقال بسیار عالی است که تولید فیلم های نوری با عملکرد بالا را برای پوشش های ضد انعکاس (AR) ، پوشش های ضد شعله و غیره امکان پذیر می کند.
من میکروساخت کثیف و یکنواخت
با استفاده از فرآیندهای پیشرفته شکل گیری و سینتر کردن، مواد هدف اکسید تیتانیوم دارای ذرات نازک و یکنواخت است، که میزان رسوب فیلم پایدار و سازگاری ضخامت خوب را تضمین می کند.
من قدرت مکانیکی خوب و مقاومت گرما
با نقطه ذوب حدود 1855 °C، اهداف اکسید تیتانیوم در شرایط اسپتر کردن با قدرت بالا مقاوم در برابر ترک یا آسیب هستند، که آنها را برای تولید مداوم طولانی مدت مناسب می کند.
کاربردهای گسترده ای از هدف اسپتر کردن اکسید تیتانیوم (TiOx)
من تولید دستگاه های نوری
هدف های اکسید تیتانیوم برای تولید فیلم های دارای شاخص انشعاب بالا برای لنزهای نوری، پوشش های ضد انعکاس (پوشش های AR) ، فیلم های ضد درخشش و فیلترهای نوری استفاده می شوند.بهبود انتقال نور و کیفیت تصویر.
من صنعت خورشیدی
استفاده شده به عنوان لایه های محافظ یا کاربردی در فیلم های رسانا شفاف (TCO) ، اهداف اکسید تیتانیوم باعث بهبود بهره وری جذب نور و ثبات دستگاه می شوند.به طور گسترده ای در تولید سلول های خورشیدی و فیلم های فتوکاتالیتیک استفاده می شود.
من تولید نیمه هادی
هدف های Sputtering آکسید تیتانیوم به عنوان لایه های دی الکتریک، فیلم های محافظ و مواد عایق برای بهبود ثبات و عملکرد عایق تراشه ها و دستگاه های الکترونیکی استفاده می شود.
من شیشه کم انتشار (Low-E) صرفه جویی در انرژی
هدف های اکسید تیتانیوم به عنوان مواد لایه ای کاربردی کلیدی برای بهبود عایق گرما و انتقال نور شیشه استفاده می شوند. این خواص به طور موثر مصرف انرژی را کاهش می دهد.منجر به کاربرد گسترده آنها در راه حل های پیشرفته صرفه جویی در انرژی ساختمان.
