logo
ราคาดี  ออนไลน์

รายละเอียดสินค้า

Created with Pixso. บ้าน Created with Pixso. สินค้า Created with Pixso.
เป้าเซรามิก
Created with Pixso. เป้าหมายสปัตเตอร์ไทเทเนียม Boride (เป้าหมายสปัตเตอร์เซรามิก TiB2)
ข้อมูลรายละเอียด
สถานที่กำเนิด:
จีน
ได้รับการรับรอง:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
ความบริสุทธิ์:
99.99%
ความหนาแน่นสัมพัทธ์:
99%
ชื่อ:
เป้าหมายสปัตเตอร์ไทเทเนียม Boride (เป้าหมายสปัตเตอร์เซรามิก TiB2)
กระบวนการขึ้นรูป:
การเผา
ข้อมูลจำเพาะของผลิตภัณฑ์:
เป้าหมายระนาบ เป้าหมายแบบหมุน เป้าหมายที่มีรูปร่างแบบกำหนดเอง
ฟิลด์แอปพลิเคชัน:
แผงแสดงผล, เทคโนโลยีหน้าจอสัมผัส, อุตสาหกรรมไฟฟ้าโซลาร์เซลล์, อิเล็กทรอนิกส์แบบยืดหยุ่น, การผลิตอุปก
รายละเอียดการบรรจุ:
บรรจุภัณฑ์ปิดผนึกสูญญากาศ บรรจุกล่องสำหรับจัดเก็บและขนส่ง
สามารถในการผลิต:
อุปทานที่มั่นคง
เน้น:

เป้าหมายสปัตเตอร์ไทเทเนียม Boride

,

เป้าหมายสปัตเตอร์เซรามิก TiB2

,

เป้าหมายไทเทเนียม Boride

คําอธิบายสินค้า

เป้าหมายสปัตเตอร์ไทเทเนียมโบไรด์เป็นเป้าหมายเซรามิกที่ผลิตจากผง TiB₂ ที่มีความบริสุทธิ์สูงผ่านกระบวนการอัดร้อนหรือการเผาผนึก เป็นวัสดุเชิงฟังก์ชันที่มีจุดหลอมเหลวสูงและมีความแข็งสูง ด้วยการรวมความเสถียรทางเคมีที่ยอดเยี่ยมของไทเทเนียมโลหะเข้ากับความแข็งสูง ความต้านทานการสึกหรอ และความต้านทานการกัดกร่อนของโบไรด์ เป้าหมาย TiB₂ จึงให้ประสิทธิภาพที่ยอดเยี่ยม เป้าหมายเหล่านี้ใช้กันอย่างแพร่หลายในกระบวนการเคลือบต่างๆ รวมถึงการสะสมไอทางกายภาพ (PVD) การสปัตเตอร์แมกนีตรอน และการสะสมไอสารเคมี (CVD) ทำให้สามารถสะสมฟิล์มบางเซรามิกประสิทธิภาพสูงบนพื้นผิวที่หลากหลาย

คุณสมบัติที่โดดเด่นของเป้าหมายสปัตเตอร์ไทเทเนียม Boride

 

ล ความแข็งสูงและทนต่อการสึกหรอ

 

ฟิล์มที่สะสมอยู่จะมีความแข็งแบบ Vickers เกิน 3000 HV ซึ่งช่วยเพิ่มความต้านทานการขีดข่วนบนพื้นผิวและความต้านทานการสึกหรอได้อย่างมาก

 

 

ล ทนต่อการกัดกร่อนและออกซิเดชั่นได้ดีเยี่ยม

 

ฟิล์มยังคงมีความเสถียรในสภาพแวดล้อมออกซิเดชั่นที่เป็นกรด ด่าง และอุณหภูมิสูง ต้านทานปฏิกิริยาและการย่อยสลาย ทำให้เหมาะสำหรับการเคลือบป้องกันภายใต้สภาวะการทำงานที่รุนแรง

 

 

ล การนำไฟฟ้าและความร้อนที่ดี

 

ไทเทเนียมไดโบไรด์แตกต่างจากเซรามิกทั่วไปตรงที่มีระดับการนำไฟฟ้าและความร้อนที่โดดเด่น คุณสมบัติพิเศษนี้ทำให้เหมาะสำหรับการเคลือบเชิงฟังก์ชันขั้นสูงที่ต้องการทั้งความแข็งพิเศษและความสามารถในการนำไฟฟ้า

 

 

ล การยึดเกาะที่ดีและความหนาแน่นของฟิล์ม


การใช้เป้าหมายสปัตเตอร์ไทเทเนียมโบไรด์ที่มีความบริสุทธิ์สูงช่วยให้สามารถสร้างฟิล์มที่มีความหนาแน่นและสม่ำเสมอพร้อมการยึดเกาะที่แข็งแกร่ง ปรับปรุงความสม่ำเสมอของผลิตภัณฑ์และความน่าเชื่อถือ

 

การใช้งานที่หลากหลายของเป้าหมายสปัตเตอร์ไทเทเนียม Boride

 

ล ดีแผงไอเพลย์

 

ในการผลิตจอแสดงผลระดับไฮเอนด์ เช่น LCD, OLED และ Mini/Micro-LED เป้าหมายของอินเดียมซีเรียมออกไซด์สามารถสปัตเตอร์เพื่อสร้างฟิล์มนำไฟฟ้าที่โปร่งใสซึ่งมีการส่งผ่านสูงและความต้านทานต่ำสำหรับอิเล็กโทรดของแผงจอแสดงผลและการเชื่อมต่อระหว่างกัน ซึ่งช่วยปรับปรุงความสม่ำเสมอของความสว่าง ความเปรียบต่าง และอายุการใช้งานได้อย่างมาก

 

ล เทคโนโลยีหน้าจอสัมผัส

 

ผลิตภัณฑ์ระบบสัมผัส เช่น สมาร์ทโฟน แท็บเล็ต จอแสดงผลรถยนต์ และแผงควบคุมอุตสาหกรรม ฟิล์มไททาเนียมไดโบไรด์สามารถแทนที่ฟิล์ม ITO แบบดั้งเดิมเป็นอิเล็กโทรดสัมผัส ให้การตอบสนองที่เร็วขึ้น การส่งผ่านที่ดีกว่า และความเข้ากันได้ที่ยืดหยุ่นดีขึ้น รองรับกรอบแคบและการออกแบบหน้าจอสัมผัสขนาดใหญ่

 

 

 ล อุตสาหกรรมไฟฟ้าโซลาร์เซลล์

 

ในเซลล์แสงอาทิตย์ประสิทธิภาพสูง เช่น HJT และเซลล์เรียงกัน perovskite พวกมันถูกใช้เป็นวัสดุอิเล็กโทรดนำไฟฟ้าแบบโปร่งใส เพื่อลดความต้านทานอนุกรม ปรับปรุงประสิทธิภาพการแปลงโฟโตอิเล็กทริก และเพิ่มความเสถียร โดยให้โซลูชันการนำไฟฟ้าประสิทธิภาพสูงกว่าสำหรับโมดูลเซลล์แสงอาทิตย์รุ่นต่อไป

 

 

ล อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ที่ยืดหยุ่น

 

เป้าหมายสปัตเตอร์ไทเทเนียมโบไรด์สามารถสปัตเตอร์บนพื้นผิวที่ยืดหยุ่น เช่น โพลีอิไมด์ (PI) และ PET เพื่อสร้างอิเล็กโทรดโปร่งใสที่ยืดหยุ่น ซึ่งนำไปใช้ในผลิตภัณฑ์เกิดใหม่ เช่น จอแสดงผลแบบพับได้ อุปกรณ์สวมใส่ได้ และเซ็นเซอร์แบบยืดหยุ่น

 

 

ล การผลิตอุปกรณ์ออปติก

 

ใช้สำหรับเคลือบแก้วแสง ฟิล์มกรองแสง ฟิลเตอร์ และสารเคลือบป้องกันแสงสะท้อน โดยรักษาการส่งผ่านข้อมูลสูงในขณะที่มีคุณสมบัติเป็นสื่อกระแสไฟฟ้าหรือป้องกันไฟฟ้าสถิต เหมาะสำหรับสนามแสงที่มีความแม่นยำ เช่น การสื่อสารด้วยแสงและการตรวจจับด้วยแสง