logo
İyi bir fiyat.  çevrimiçi

Ürün ayrıntıları

Created with Pixso. Evde Created with Pixso. Ürünler Created with Pixso.
Metal püskürtme hedefi
Created with Pixso. Döner / Düz Hafniyum Püskürtme Hedefi Yüksek Erime Noktalı Hf Hedefi
Ayrıntılı Bilgiler
Menşe yeri:
Çin
Sertifika:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
Saflık:
%99,9 - %99,99
Yoğunluk:
13.31 g/cm³
İsim:
Hafniyum Hedefi (Hf)
Oluşturma işlemi:
Sıcak Presleme Sinterleme
Ürün Özellikleri:
Düz hedef, Dönen hedef
Uygulama Alanları:
Yarı İletken İmalatı, Optik Cihaz İmalatı. Nükleer Endüstri, Havacılık ve Yüksek Sıcaklık Koruması
Ambalaj bilgileri:
Vakumla kapatılmış ambalaj, saklama ve taşıma için kutuya paketlenmiştir
Yetenek temini:
istikrarlı tedarik
Vurgulamak:

Düz Hafniyum Püskürtme Hedefi

,

Döner Hafniyum Püskürtme Hedefi

,

Hafniyum Hf Hedefi

Ürün Tanımı

Hafnium hedefler, yüksek erime noktasına (~2227°C), mükemmel korozyon direncine, iyi sünekliğe ve üstün termal nötron emilimine sahip, yüksek saflıkta hafnium metalinden (Hf) yapılmış püskürtme hedefleridir. Yarı iletken üretiminde, optik kaplamalarda, nükleer endüstride ve yüksek sıcaklık alaşımlarında yaygın olarak kullanılırlar. Hafnium, elektronik ve enerji endüstrilerinde, özellikle gelişmiş çip süreçleri ve nükleer reaktörler için kritik bir stratejik malzemedir.

Hafnium Hedeflerinin Mükemmel Özellikleri

 

l Ultra Yüksek Erime Noktası ve Termal Kararlılık


Yüksek sıcaklık ortamlarında yapısal kararlılığı korur, yüksek sıcaklık kaplama işlemleri ve aşırı koşullar için uygundur.

 

 

l Mükemmel Korozyon Direnci


Çoğu aside, bazlara ve kimyasal ortamlara karşı yüksek direnç gösterir, zorlu ortamlarda uzun süreli kullanıma olanak tanır.

 

 

l Yüksek saflık ve üstün film performansı


Püskürtülen filmler tekdüze ve yoğundur; hafnium bileşikleri (örn. HfO₂), UV optik aralığında düşük emilime sahiptir, bu da onları yarı iletkenler ve optik kaplamalar için ideal yüksek kırılma indisi malzemeleri yapar.

 

 

l Gelişmiş yarı iletken süreçlerinde kilit rol


Hafnium bileşikleri (örn. HfO₂), gelişmiş mantık cihazlarında ve bellek çiplerinde entegrasyonu iyileştirmek ve güç tüketimini azaltmak için yaygın olarak kullanılan çekirdek yüksek-k dielektrik malzemeleridir.

 

Hafnium Hedeflerinin Uygulamaları

 

l Yarı İletken Üretimi


Hafnium hedefleri, gelişmiş mantık cihazları, MOSFET'ler ve DRAM belleklerde yaygın olarak kullanılan HfO₂ gibi yüksek-k dielektrik filmlerin üretimi için esastır. Yüksek-k özellikleri, cihaz kaçak akımını etkili bir şekilde azaltır ve entegrasyonu ve performansı artırır, bu da onları 7nm ve daha gelişmiş süreçler için vazgeçilmez kılar.

 

 

l Optik Cihaz Üretimi


Hafnium hedefleri, optikte yüksek kırılma indisine sahip HfO₂ filmleri üretmek için kullanılır ve lazer optik sistemlerinde, girişim filtrelerinde, kızılötesi pencerelerde ve hassas lenslerde uygulanır. Bu filmler, optik geçirgenliği ve yüksek sıcaklık direncini artırır, üst düzey optik sistemlerin katı kalite gereksinimlerini karşılar.

 

 

l Nükleer Endüstri


Püskürtülen filmler, hafniumun son derece yüksek nötron emilim kesiti nedeniyle reaktör kontrol sistemlerinde ve koruyucu yapılarda kullanılabilir. Hafnium kaplamalar, nükleer güvenlikte kritik bir rol oynar ve nükleer alanda yeri doldurulamaz fonksiyonel malzemelerdir.

 

 

l Havacılık ve Yüksek Sıcaklık Koruması


Hafnium hedefleri, jet motorları, gaz türbini kanatları ve diğer yüksek sıcaklık bileşenleri için yüksek sıcaklık oksidasyonuna dayanıklı kaplamalar oluşturmak için kullanılır. Yüksek erime noktaları ve kimyasal kararlılıkları, aşırı havacılık ortamlarında güvenilirlik sağlar ve genel sistem ömrünü uzatır.