logo
Giá tốt.  trực tuyến

Chi tiết sản phẩm

Created with Pixso. Nhà Created with Pixso. Các sản phẩm Created with Pixso.
Mục tiêu gốm
Created with Pixso. Mục tiêu phún xạ oxit kẽm (Mục tiêu phún xạ ZnO)
Thông tin chi tiết
Nguồn gốc:
Trung Quốc
Chứng nhận:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
độ tinh khiết:
99,99%
Mật độ tương đối:
98%
Tên:
Mục tiêu phún xạ oxit kẽm (Mục tiêu phún xạ ZnO)
Quá trình hình thành:
Thiêu kết
Thông số sản phẩm:
Mục tiêu phẳng, Mục tiêu quay
Trường ứng dụng:
Sản xuất thiết bị quang học, Công nghiệp quang điện
chi tiết đóng gói:
Đóng gói hút chân không, đóng thùng để bảo quản và vận chuyển
Khả năng cung cấp:
nguồn cung ổn định
Làm nổi bật:

Mục tiêu phún xạ oxit kẽm

,

Mục tiêu phún xạ ZnO

,

Mục tiêu phún xạ oxit kẽm

Mô tả sản phẩm

Các mục tiêu phun nhựa kẽm oxit là vật liệu chính cho sản xuất phim mỏng hiệu quả, được sử dụng rộng rãi trong quy trình lắng đọng hơi vật lý (PVD).Oxit kẽm cung cấp một nguồn vật liệu hiệu quả và đồng nhất, đảm bảo rằng các tấm mỏng hình thành trên nền có chất lượng và độ nhất quán tuyệt vời.Việc chọn kẽm oxit làm vật liệu mục tiêu chủ yếu dựa trên sự ổn định hóa học độc đáo và tính chất vật lý tuyệt vời của nóCác đặc điểm này cho phép nó chịu được môi trường lắng đọng năng lượng cao trong quá trình sản xuất, trong khi duy trì độ tinh khiết hóa học và tính toàn vẹn cấu trúc.

Tính chất nổi bật của các mục tiêu phun oxit kẽm

 

Tôi. Độ tinh khiết cao đảm bảo hiệu suất phim

 

Các mục tiêu phun kẽm oxit có thể đạt độ tinh khiết trên 99,99%, với hàm lượng tạp chất thấp, đảm bảo rằng các bộ phim mỏng phun có tính chất điện và quang học tuyệt vời.

 

 

Tôi. Tầm truyền quang tuyệt vời

 

Độ truyền quang trong phạm vi ánh sáng có thể nhìn thấy có thể vượt quá 80%, làm cho nó phù hợp để chuẩn bị phim quang minh bạch cao và phim dẫn quang trong suốt.

 

 

Tôi. Chống tốt (Dopable)

 

Bằng cách doping với các yếu tố như Al, Ga và B, độ kháng có thể được giảm đáng kể, làm cho nó trở thành một lựa chọn thay thế thân thiện với môi trường cho các bộ phim dẫn điện trong suốt ITO.

 

Tôi. Sự ổn định hóa học tuyệt vời

 

Nó chống ăn mòn axit và kiềm, duy trì hiệu suất ổn định trong môi trường nhiệt độ cao và độ ẩm cao.

 

Ứng dụng rộng củaMục tiêu phun oxit kẽm

 

Tôi. Bảng hiển thị

 

Các mục tiêu phun kẽm oxit có thể được sử dụng để sản xuất các bộ phim dẫn điện và minh bạch cao (thay thế cho ITO).Các mục tiêu phun oxit kẽm có thể cải thiện sự đồng nhất độ sáng, tốc độ phản hồi, và tuổi thọ của màn hình.

 

 

Tôi. Sản xuất thiết bị quang học

 

Các mục tiêu phun kẽm oxit được sử dụng để sản xuất các thiết bị quang điện tử khác nhau, chẳng hạn như đèn LED và đèn diode laser.các tính chất quang học và độ dẫn của các bộ phim oxit kẽm là rất quan trọngDo đó, điều kiện lắng đọng (như nhiệt độ, áp suất và tốc độ lắng đọng) phải được kiểm soát chính xác.

 

 

Tôi. Ngành công nghiệp quang điện


Các mục tiêu phun kẽm oxit đóng một vai trò quan trọng trong sản xuất pin mặt trời bằng cách cung cấp các tấm rất minh bạch và dẫn điện thường thay thế các lớp Indium Tin Oxide (ITO) truyền thống.Ứng dụng này đặc biệt quan trọng trong sản xuất pin mặt trời màng mỏng, trong đó việc tối ưu hóa độ minh bạch và độ dẫn của lớp oxit kẽm trực tiếp quyết định hiệu suất tổng thể của thiết bị.