Company
Các sản phẩm
phún xạ vật liệu mục tiêu
Mục tiêu phun silicon (Si Sputtering Target)
Mục tiêu phún xạ đồng Trung Quốc(Mục tiêu phún xạ Cu)
Mục tiêu phún xạ Indium Tin Oxide (ITO)
Mục tiêu phún xạ titan có độ tinh khiết cao (Mục tiêu phún xạ Ti)
Mục tiêu gốm
Mục tiêu phún xạ oxit nhôm có độ tinh khiết cao (Mục tiêu phún xạ Al₂O₃)
Mục tiêu phún xạ Telluride Kẽm (ZnTe) cho vật liệu phủ
Mục tiêu phún xạ oxit kẽm (Mục tiêu phún xạ ZnO)
Mục tiêu phún xạ Indium Cerium Oxide(Mục tiêu phún xạ ICO)
Mục tiêu bột bột kháng cao (GXO Sputtering Target)
Mục tiêu phún xạ cacbua silic (Mục tiêu phún xạ SiC)
Mục tiêu Phun Kim loại
Các mục tiêu phun Hafnium (Hf)
Mục tiêu phun tungsten (W) cho lớp phủ PVD
Mục tiêu phún xạ kẽm (Mục tiêu phún xạ Zn)Vật liệu màng mỏng
Mục tiêu phún xạ zirconium có độ tinh khiết cao (Mục tiêu phún xạ Zr)
Mục tiêu bột kim loại cứng cao Kháng mòn WC Mục tiêu Carbon Tungsten
Mục tiêu phún xạ nhôm titan có độ tinh khiết cao (Mục tiêu phún xạ TiAl)
Mục tiêu phun đất hiếm
Mục tiêu phún xạ Terbium có độ tinh khiết cao (Mục tiêu phún xạ Tb)
Mục tiêu Phun Sputtering Dysprosium (Dy) Độ tinh khiết cao cho Màng Từ tính và Lớp phủ Quang học
Vật liệu bay hơi
Dung nhôm Silicon hỗn hợp kim loại vật liệu mục tiêu bột kim loại nén nóng Sintering
Mục tiêu phun SiO2 thạch anh hình nhẫn cho lớp phủ chân không
Vật liệu bay hơi vô cơ Niobi Oxit Nb2O5 có chiết suất cao
Các vật liệu phun phun bằng cách bay hơi phim mỏng trong khối Indium
Tantal Pentoxit Tinh Khiết Cao Ta2O5 Cho Thiết Bị Quang Học Bán Dẫn
Vật liệu bốc hơi oxit kim loại chuyển tiếp Titanium Pentoxide Ti3O5
Dịch vụ liên kết mục tiêu phun
Dịch vụ liên kết mục tiêu phẳng cho trường sơn PVD
Keo dán tấm nền mạ phún xạ kênh nước chính xác ＞98%
Dịch vụ dán mục tiêu phún xạ dây chuyền sản xuất lớp phủ mục tiêu quay
1
