logo
Giá tốt.  trực tuyến

Chi tiết sản phẩm

Created with Pixso. Nhà Created with Pixso. Các sản phẩm Created with Pixso.
Mục tiêu gốm
Created with Pixso. Mục tiêu phún xạ Titan Nitride cho lớp phủ cứng (Mục tiêu phún xạ TiN)
Thông tin chi tiết
Nguồn gốc:
Trung Quốc
Chứng nhận:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
độ tinh khiết:
99,9%
Sự nhỏ gọn:
≥98%
tên:
Mục tiêu phún xạ Titan Nitride cho lớp phủ cứng (Mục tiêu phún xạ TiN)
Quá trình hình thành:
Thiêu kết, phun
Thông số sản phẩm:
Mục tiêu phẳng, Mục tiêu quay
Trường ứng dụng:
Lớp phủ cứng, Sản xuất chất bán dẫn, Lĩnh vực quang học
chi tiết đóng gói:
Đóng gói hút chân không, đóng thùng để bảo quản và vận chuyển
Khả năng cung cấp:
nguồn cung ổn định
Làm nổi bật:

Mục tiêu phún xạ Titan Nitride

,

Mục tiêu phún xạ TiN

,

Mục tiêu Titanium Nitride

Mô tả sản phẩm

Titanium Nitride Sputtering Target là một trong những mục tiêu chức năng kim loại-thạch sứ được sử dụng rộng rãi nhất trên toàn cầu.Nó kết hợp tính dẫn điện và nhiệt của kim loại với độ cứng cao và khả năng chống ăn mòn của gốm sứThông qua các quy trình như magnetron sputtering, các bộ phim chức năng cân bằng có thể được lắng đọng.đáp ứng các yêu cầu chức năng chính xác cao của điện tử bán dẫnNó được sử dụng rộng rãi trong các lĩnh vực sản xuất cao cấp như máy móc, điện tử, trang trí,hàng không vũ trụ, và năng lượng mới, làm cho nó trở thành một vật liệu cốt lõi linh hoạt trên tất cả các ngành công nghiệp.


Tính chất nổi bật của TTitanium Nitride Sputtering Target

 

Tôi. Mật độ tuyệt vời


Mật độ tương đối ≥98%, với kích thước hạt phân bố đồng đều giữa 3-10 μm, làm giảm xả cung trong quá trình phun và cải thiện sự đồng nhất thành phần phim.

 

 

Tôi. Tỷ lệ lắng đọng cao, không có sương mù


Tỷ lệ lắng đọng cao tối ưu hóa tối đa hóa hiệu quả, đảm bảo rằng các bộ phim vẫn trong suốt với cả ngoại hình và mật độ được đảm bảo.

 

 

Tôi. cực cứng và chống mòn


Mục tiêu phun titan nitride này cung cấp độ cứng nhất quán và mạnh mẽ hơn 1800 HV (sự cứng Vickers).Nó cung cấp khả năng chống mòn cao gấp 4 đến 8 lần so với các tấm kim loại thông thường trong khi vẫn duy trì độ dẻo dai cần thiết để chủ động ngăn chặn nứt phim và đảm bảo tính toàn vẹn của lớp phủ...

 

 

Tôi. Kháng điện thấp


Chống nhiệt độ phòng ≤ 150 μΩ·cm, vượt xa các mục tiêu gốm truyền thống, làm cho nó phù hợp với cổng bán dẫn, lớp phủ tiêu hao nhiệt,và các ứng dụng dẫn điện / dẫn nhiệt khác.

 

 

Tôi. Màu điều chỉnh


Màu vàng tự nhiên, nó có thể được điều chỉnh sang màu đen, xám và các màu khác thông qua tối ưu hóa quy trình, đáp ứng nhu cầu trang trí cao cấp.

 

Ứng dụng rộng của mục tiêu phun titan nitride

 

Tôi. Lớp phủ cứng


Lớp phủ Titanium Nitride Sputtering Target mang lại một kết thúc màu vàng vàng đồng nhất, cổ điển đặc trưng bởi độ rõ ràng đặc biệt, hoàn toàn không có mờ hoặc khiếm khuyết hạt.Được thiết kế để sống lâu, bề mặt có khả năng chống mờ và trầy xước cao, đảm bảo ngoại hình nguyên sơ ngay cả khi sử dụng nghiêm ngặt và lâu dài.Nó phù hợp với các tiêu chuẩn môi trường RoHS và tăng hiệu quả sản xuất hơn 30%.

 

 

Tôi. Sản xuất bán dẫn


Đảm bảo truyền tín hiệu ổn định trong các thiết bị điện tử và kéo dài tuổi thọ.hỗ trợ các yêu cầu chế tạo bán dẫn nghiêm ngặt nhất và có thể đạt được tỷ lệ năng suất bán dẫn ≥98%, đồng thời mang lại sự gia tăng 25% hiệu quả sản xuất hàng loạt cho ngành điện tử tiêu dùng.

 

 

Tôi. Sân quang


TiN đảm bảo độ rõ ràng hình ảnh vượt trội và độ truyền ánh sáng cao trên tất cả các thiết bị quang học.cung cấp công suất khối lượng lớn cần thiết để xử lý hàng ngàn thành phần quang học chính xác mỗi ngày.