Hoofddoelmaterialen:Si, Nb, Cu, AI, Mo, Ti, Ni, Ag, Yb, SiB, GXO, MoOX,  Nb₂Ox, MoNb,AINd, CuNi

Verdampingsmaterialen:Ag, AI, Yb

Bij de productie van slimme touchscreens en diverse flat-panel displays zijn sputtering targets kernmaterialen voor het bereiden van transparante geleidende films (TCF's), functionele films en interfaces. De kwaliteit van deze materialen heeft directe invloed op de displayprestaties, de aanraakresponsiviteit en de algehele apparaatstabiliteit. Het gebruik van hoogzuivere, zeer uniforme sputtering targets garandeert de depositie van films met lage weerstand en hoge transparantie, wat zorgt voor uniforme schermhelderheid, ware kleurreproductie en verbeterde aanraakgevoeligheid en responssnelheid.

1.Display Panel

Sputtering targets worden gebruikt voor de depositie van transparante geleidende films (TCF's), wat de uniformiteit van de schermhelderheid en het contrast aanzienlijk verbetert. Dit minimaliseert visuele defecten zoals donkere vlekken of kleurafwijkingen, wat zorgt voor stabiele, betrouwbare en hoogwaardige displayprestaties.

2.Touch Technologie

Transparante geleidende lagen en functionele sensorenfilms, gedeponeerd uit sputtering targets, verbeteren de aanraakgevoeligheid en precisie. Deze materialen ondersteunen geavanceerde multi-touch en flexibele schermtoepassingen, terwijl ze tegelijkertijd de algehele levensduur van het apparaat verlengen.

3.Flexibele en High-End Flat-Panel Displays

Films gedeponeerd uit zeer dichte, zeer stabiele targetmaterialen zijn geschikt voor gebruik in geavanceerde technologieën, waaronder flexibele displays, OLED-schermen en panelen met een hoge verversingssnelheid. Deze materialen zorgen voor een superieure filmconsistentie, wat zowel de duurzaamheid van het apparaat als de algehele displayprestaties verbetert.