Materiali target principali:Si, Nb, Cu, AI, Mo, Ti, Ni, Ag, Yb, SiB, GXO, MoOX,  Nb₂Ox, MoNb,AINd, CuNi

Materiali per evaporazione:Ag, AI, Yb

Nella produzione di touchscreen intelligenti e vari display a schermo piatto, i target di sputtering sono materiali fondamentali per la preparazione di film conduttivi trasparenti (TCF), film funzionali e strati di interfaccia. La qualità di questi materiali influisce direttamente sulle prestazioni del display, sulla reattività al tocco e sulla stabilità generale del dispositivo. L'utilizzo di target di sputtering ad alta purezza e alta uniformità garantisce la deposizione di film a bassa resistenza e alta trasparenza che assicurano uniformità della luminosità dello schermo, riproduzione fedele dei colori e una maggiore sensibilità al tocco e velocità di risposta.

1. Pannelli Display

I target di sputtering sono utilizzati per la deposizione di film conduttivi trasparenti (TCF), migliorando significativamente l'uniformità della luminosità dello schermo e il contrasto. Ciò riduce al minimo i difetti visivi come macchie scure o discrepanze di colore, garantendo prestazioni del display stabili, affidabili e di alta qualità.

2. Tecnologia Touch

Gli strati conduttivi trasparenti e i film funzionali di rilevamento depositati dai target di sputtering migliorano la sensibilità e la precisione del tocco. Questi materiali supportano applicazioni avanzate multi-touch e per schermi flessibili, estendendo contemporaneamente la durata complessiva del dispositivo.

3. Display a Schermo Piatto Flessibili e di Alta Gamma

I film depositati da materiali target altamente densi e altamente stabili sono adatti per l'uso in tecnologie avanzate, inclusi display flessibili, schermi OLED e pannelli ad alto refresh rate. Questi materiali garantiscono una consistenza superiore del film, migliorando sia la durata del dispositivo che le prestazioni complessive del display.