Ceramic Powder de Alta Pureza Sin Impurezas Residuales Distribución Uniforme

Προσφέρουμε εξατομικευμένη ανάπτυξη και κατασκευή κεραμικών στόχων υψηλής καθαρότητας.διασφάλιση της απρόσκοπτης συμβατότητας με διάφορες προηγμένες τεχνικές επεξεργασίας, συμπεριλαμβανομένης της συγκόλλησης, της θερμής πίεσης και της χύτευσης.

Κύρια προϊόντα: οξείδιο του ίνδιου, οξείδιο του ίνδιου του κασσίτερου, οξείδιο του ψευδαργύρου του αλουμινίου, οξείδιο του ζιρκόνιου, οξείδιο του νιοβίου, οξείδιο του ταντάλου, οξείδιο του τιτανίου κλπ.

Εξαιρετικά χαρακτηριστικά κεραμικών στόχων υψηλής καθαρότητας

● Υψηλή αγνότητα

Εξαιρετικά χαμηλή περιεκτικότητα σε μέταλλα, ιόντα και άνθρακα, εξασφαλίζοντας σταθερή και αξιόπιστη απόδοση υλικού.

● Ομοιόμορφο και ελεγχόμενο μέγεθος σωματιδίων

Η στενή κατανομή μεγέθους σωματιδίων σε νανοκλίμακα ή επίπεδο μικρών διευκολύνει την συμπύκνωση συντριβής και τη συνεπή απόδοση.

● Υψηλή ειδική επιφάνεια

Βελτιώνει την δραστηριότητα συγκόλλησης, οδηγώντας σε μείωση της θερμοκρασίας συγκόλλησης και μείωση της κατανάλωσης ενέργειας.

● Καλή διασπορά

Ειδική επεξεργασία επιφάνειας εξασφαλίζει εύκολη διασπορά σε οργανικά ή υδατικά συστήματα, κατάλληλη για επεξεργασία επίστρωσης, ένεσης ή σχηματισμού.

Ευρείες εφαρμογές κεραμικών στόχων υψηλής καθαρότητας

Οξείδιο του ινδίου, οξείδιο του ινδίου κασσίτερου, οξείδιο του ψευδαργύρου του αλουμινίου, οξείδιο του ζιρκόνιου, οξείδιο του νιοβίου, οξείδιο του ταντάλου, οξείδιο του τιτανίου κλπ.