Όλες οι κατηγορίες
Μας ελάτε σε επαφή με
Σκοπός ψεκασμού μετάλλων
Στόχοι γραφίτη υψηλής καθαρότητας (C Sputtering Target)
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Ασημένιοι Στόχοι Εξάχνωσης (Στόχος Εξάχνωσης Ag)
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Στόχος πλατινένιου sputtering υψηλής καθαρότητας (στόχος Pt)
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Στόχος ψεκασμού χρωμίου (Στόχος ψεκασμού Cr),Καθαρότητα:990,5%-99,95%
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Στόχος Sputtering Niobium (Nb Sputtering Target)
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Στόχοι ψεκασμού μετάλλων σπάνιων γαιών ιτερβίου (Στόχοι ψεκασμού σπάνιων γαιών ιβ)
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Gold Sputtering Target 99,99% Purity (Au Sputtering Target)
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Στόχοι Sputtering από αλουμίνιο (Στόχοι Al Sputtering)
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Στόχοι Καθίζησης Νικελίου (Στόχοι Καθίζησης Ni), Καθαρότητα: 99,99%
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Target Sputtering Tantalum High-Purity (Ta Sputtering Target) για PVD
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Indium Sputtering Targets (Στόχοι Sputtering)
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Στόχοι ψεκασμού χαφνίου (Hf)
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Στόχος μολυβδαινίου (Molybdenum Sputtering Target)
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Στόχοι κράματος Στόχοι νικελίου χρωμίου (NiCr Supptering Target)
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Στόχοι Sputtering Tungsten Titanium (Στόχοι Sputtering WTi)
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Στόχοι νικελίου βαναδίου (NiV Sputtering Targets)
Πάρτε την καλύτερη τιμή
