あっという間に3日間のイベントが終了しました。第26回中国国際光電子博覧会（CIOE）は本日閉幕しました。この光電子の集まりの間、APGグループは多くの注目と支援を受けました。ブースは来場者で賑わい、活発で活気のあるコミュニケーションが行われました。

写真を通して素晴らしい瞬間を振り返り、展示会場の熱気と活力を再び感じましょう!!

APGグループ、CIOE 2025で先進ターゲット材料ソリューションを初公開

深セン世界展覧・会議センターのホール7A81に位置し、当社の技術革新と市場リーダーシップを強調するために設計された高性能ターゲット材料の洗練された展示を行いました。

高純度スパッタリングターゲット、粉末、電子ペーストの主要メーカーとして、当社は多様なハイテク産業に不可欠な材料ソリューションを提供しています。当社の統合された製品ポートフォリオは、太陽光発電、半導体製造、インテリジェントディスプレイのイノベーションを推進すると同時に、パワーバッテリー、希土類永久磁石、エネルギー効率の高いガラスの進歩をサポートしています。さらに、高性能装飾および工具コーティング用の特殊材料を提供し、グローバルな産業用途に優れた耐久性と精度を保証します。

APGグループは、HBSiシリコンターゲット、Nb₂Oxニオブ酸化物ターゲット、MoOxモリブデン酸化物ターゲット、GXO/GSO高抵抗ターゲット、CrN/TiN金属窒化物ターゲット、CrC/TiB₂ブラックカーボンターゲットを含む、先進的な薄膜用途向けに設計された最新の最先端材料を発表しました。

シリコンターゲット（HBSi）

性能上の利点：高純度・高密度、低反射、高強度。

用途：ハイエンド電子製品のカバー。

高抵抗ターゲット（GXO/GSO）

性能上の利点：調整可能な膜抵抗（10⁶～10⁹、完全に調整可能）、安定した信頼性。
用途：携帯電話または車載スクリーンの高抵抗耐干渉コーティング。

モリブデン酸化物ターゲット（MoOx）

性能上の利点：P型半導体特性、高透過率、エレクトロクロミック効果。

用途：金属線の低反射（ダーク）膜、狭額縁LCD、ブラックマトリックス、メタルメッシュタッチセンサー、OLED用の透明ホール注入層（HIL）など、さまざまな用途。

金属窒化物ターゲット（CrN/TiN）

性能上の利点：高い成膜速度、ハレーションのない膜。

ブラックフィルムシリーズカーバイドターゲット（CrC/TiB₂）

性能上の利点：高い成膜速度、高い膜硬度。

用途：金属構造部品の硬質コーティングおよび黒色コーティング。

オンサイト展示

展示ブースは大きな関心を集め、多くの来場者が展示された材料を詳しく見るために立ち寄りました。来場者は、さまざまなターゲット製品の微細構造、性能仕様、用途について包括的な説明を行った技術担当者と深く交流しました。多くが将来の戦略的協力関係やその場でのパートナーシップの可能性を探ることを目指していました。活気のある雰囲気は、APGの先進材料ソリューションの説得力のある魅力と市場への訴求力を効果的に強調しました。

この展示会は、幅広い顧客や業界パートナーとの貴重な交流と質の高い対話を促進しました。肯定的な認識と建設的なフィードバックを獲得し、同時に新たな協力の道を開拓しました。来場者から寄せられた信頼と支援に心より感謝いたします。この励ましは、先進材料開発における継続的なイノベーションへの私たちの取り組みの原動力です。

展示会は終了しましたが、戦略的パートナーシップの機会は始まったばかりです。私たちは、さまざまな技術分野にわたる先進材料の広大な可能性を探るために、世界の業界リーダーと協力することを楽しみにしています。当社の製品を直接体験できなかった方、または技術仕様や協力に関する具体的なお問い合わせがある方は、ぜひご連絡ください。APGの専門チームは、テーラーメイドのソリューションと専門家によるコンサルティングを提供するために、引き続き皆様のご利用をお待ちしております。