商品の詳細
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高純度ジスプロシウムスパッタリングターゲット（磁性膜・光学コーティング用）
| ブランド名: | APG |
| 納期: | 4〜5週間 |
| 支払い条件: | T/T |
詳細情報
起源の場所:
中国
証明:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
純度:
99.9%
密度:
8.54 g/cm3
名前:
ジスプロシウムターゲット (Dy)
形成プロセス:
真空溶解
製品仕様:
平面ターゲット、回転ターゲット
応用分野:
半導体製造、光デバイス製造、磁性膜、原子力材料および研究
パッケージの詳細:
真空密封包装、保管および輸送用にケース詰め
供給の能力:
安定した供給
ハイライト:
ジスプロシウムスパッタリングターゲット
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製品の説明
高純度ディスプロシウム (Dy) を主要成分として用意し,稀土金属のスプッターリングの重要なターゲットです.優れた熱安定性磁気フィルム,光学コーティング,半導体機能フィルム,核エネルギー,研究材料分野で広く使用されています.真空溶融やホット・イソスタティックプレス (HIP) のような高度なプロセスを用いて調製高級電子機器と機能フィルムの厳しい要求を満たす高密度で均質なマイクロ構造を持っています.
ディスプロシウム 標的 の 優れた 特質
わかった 高度な純度と高密度
標的は濃厚で均質で,純度≥99.9%で,毛穴と挿入を減少させ,フィルム層の質を改善します.
わかった 優れた磁気圧縮特性
ディスプロシウムターゲットは,磁気材料や機能フィルムの磁気特性を著しく強化することができる.
わかった 良い熱安定性
高温の噴射環境で構造安定性を維持し,長期使用を保証します.
わかった 強い化学的安定性
真空や惰性な大気では安定して動作し,簡単に酸化したり化学反応したりしません.
ディスプロシウム 標的 の 広範囲 の 応用
わかった 半導体製造
半導体装置で,特定の磁気および電気特性を有する機能フィルムを準備し,デバイスの性能と信頼性を最適化するために使用されます.
わかった 光学装置の製造
高性能の光学フィルム,反射フィルムや干渉フィルムなどの準備に使用され,光の伝達性,反射性,光学部品のフィルム層安定性.
わかった 磁気フィルム
ディスプロシウムターゲットは,稀土磁性材料と巨大磁気抵抗フィルム (GMR) の調製に広く使用されています.磁気装置の情報貯蔵密度と応答性能を大幅に向上させる.
わかった 核エネルギー材料と研究
ディスプロシウムの中性子吸収特性を利用して,核エネルギー関連薄膜材料や研究実験に使用され,特殊な機能要件を満たす.
