পাতলা ফিল্ম ZnO জিঙ্ক অক্সাইড স্পাটারিং টার্গেট PVD প্রক্রিয়ার জন্য

জিংক অক্সাইড লক্ষ্যমাত্রা দক্ষ পাতলা ফিল্ম উত্পাদন জন্য মূল উপকরণ, ব্যাপকভাবে শারীরিক বাষ্প জমা (পিভিডি) প্রক্রিয়া ব্যবহার করা হয়। জিংক অক্সাইড একটি দক্ষ এবং অভিন্ন উপাদান উৎস প্রদান করে,সাবস্ট্র্যাটে গঠিত পাতলা ফিল্মগুলির চমৎকার গুণমান এবং ধারাবাহিকতা নিশ্চিত করাজিংক অক্সাইড (ZnO) একটি সাদা গুঁড়া যা অসাধারণ বৈদ্যুতিক এবং অপটিক্যাল বৈশিষ্ট্যযুক্ত।লক্ষ্য উপাদান হিসাবে জিংক অক্সাইডের পছন্দ মূলত এর অনন্য রাসায়নিক স্থিতিশীলতা এবং চমৎকার শারীরিক বৈশিষ্ট্যগুলির উপর ভিত্তি করেএই বৈশিষ্ট্যগুলি এটির রাসায়নিক বিশুদ্ধতা এবং কাঠামোগত অখণ্ডতা বজায় রেখে উত্পাদনের সময় উচ্চ-শক্তির জমা পরিবেশের প্রতিরোধ করতে সক্ষম করে।

জিংক অক্সাইড টার্গেট (ZnO) এর অসামান্য বৈশিষ্ট্য

আমি উচ্চ বিশুদ্ধতা চলচ্চিত্রের কর্মক্ষমতা নিশ্চিত করে

জিংক অক্সাইড লক্ষ্যমাত্রা 99.99% এরও বেশি বিশুদ্ধতা অর্জন করতে পারে, কম অমেধ্যের সাথে, নিশ্চিত করে যে স্পটারযুক্ত পাতলা ফিল্মগুলির চমৎকার বৈদ্যুতিক এবং অপটিক্যাল বৈশিষ্ট্য রয়েছে।

আমি চমৎকার অপটিক্যাল ট্রান্সমিট্যান্স

দৃশ্যমান আলোর পরিসরে অপটিক্যাল ট্রান্সমিট্যান্স ৮০% অতিক্রম করতে পারে, তাই এটি উচ্চ স্বচ্ছতা অপটিক্যাল ফিল্ম এবং স্বচ্ছ পরিবাহী ফিল্ম প্রস্তুত করার জন্য উপযুক্ত।

আমি ভাল পরিবাহিতা (ডোপাবল)

আল, গ, এবং বি এর মতো উপাদানগুলির সাথে ডোপিং করে, প্রতিরোধ ক্ষমতা উল্লেখযোগ্যভাবে হ্রাস করা যেতে পারে, এটি আইটিও স্বচ্ছ পরিবাহী ফিল্মগুলির পরিবেশ বান্ধব বিকল্প করে তোলে।

আমি চমৎকার রাসায়নিক স্থিতিশীলতা

এটি অ্যাসিড এবং ক্ষারীয় ক্ষয় প্রতিরোধী, উচ্চ তাপমাত্রা এবং উচ্চ আর্দ্রতা পরিবেশে স্থিতিশীল কর্মক্ষমতা বজায় রাখে।

জিংক অক্সাইড টার্গেট (ZnO) এর বিস্তৃত অ্যাপ্লিকেশন

আমি প্রদর্শন প্যানেল

জিংক অক্সাইড লক্ষ্যমাত্রা উচ্চ স্বচ্ছতা এবং পরিবাহী ফিল্ম উত্পাদন করতে ব্যবহার করা যেতে পারে (আইটিও প্রতিস্থাপন) । এর চমৎকার অপটিকাল ট্রান্সমিট্যান্স, কম প্রতিরোধের এবং রাসায়নিক স্থিতিশীলতার সাথে,জিংক অক্সাইড লক্ষ্যমাত্রা উজ্জ্বলতা অভিন্নতা উন্নত করতে পারেন, প্রতিক্রিয়া গতি, এবং প্রদর্শনের জীবনকাল।

আমি অপটিক্যাল ডিভাইস উৎপাদন

জিংক অক্সাইড লক্ষ্যগুলি বিভিন্ন অপটোইলেকট্রনিক ডিভাইস যেমন এলইডি এবং লেজার ডায়োড তৈরিতে ব্যবহৃত হয়। এই অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে,জিংক অক্সাইড ফিল্মের অপটিক্যাল বৈশিষ্ট্য এবং পরিবাহিতা অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণঅতএব, জমাট বাঁধার অবস্থা (যেমন তাপমাত্রা, চাপ, এবং জমাট বাঁধার হার) সঠিকভাবে নিয়ন্ত্রণ করা আবশ্যক।

আমি ফোটোভোলটাইক শিল্প

জিংক অক্সাইড (ZnO) লক্ষ্যমাত্রা সৌর কোষ উত্পাদনে একটি মূল ভূমিকা পালন করে, যা অত্যন্ত স্বচ্ছ এবং পরিবাহী ফিল্ম সরবরাহ করে যা প্রায়শই traditionalতিহ্যবাহী ইন্ডিয়াম টিন অক্সাইড (ITO) স্তরগুলি প্রতিস্থাপন করে।এই অ্যাপ্লিকেশনটি পাতলা ফিল্মের সৌর কোষ উৎপাদনে বিশেষভাবে গুরুত্বপূর্ণ, যেখানে জিংক অক্সাইড স্তরের স্বচ্ছতা এবং পরিবাহিতা অপ্টিমাইজেশান সরাসরি ডিভাইসের সামগ্রিক দক্ষতা নির্ধারণ করে।