PVD 공정용 박막 ZnO 산화아연 스퍼터링 타겟

아연산 표적은 효율적인 얇은 필름 제조에 중요한 재료이며, 물리 증기 퇴적 (PVD) 과정에 널리 사용됩니다. 아연산은 효율적이고 균일한 재료 소스를 제공합니다.기판에 형성된 얇은 필름의 품질과 일관성이 우수하다는 것을 보장합니다.아연산화물 (ZnO) 은 뛰어난 전기 및 광학적 특성을 가진 흰색 분말입니다.주황산화물을 표적 재료로 선택하는 것은 주로 독특한 화학적 안정성과 우수한 물리적 특성을 기반으로합니다.이 특성으로 인해 제조 과정에서 높은 에너지 퇴적 환경에 견딜 수 있으며 화학 순수성과 구조적 무결성을 유지합니다.

진크 옥시드 목표물 (ZnO) 의 뛰어난 특성

난 높은 순수성 은 영화 의 성능 을 보장 한다

진크 산화물 타겟은 99.99% 이상의 순도를 달성 할 수 있으며 불순물 함량이 낮으며 분출 된 얇은 필름이 우수한 전기 및 광학적 특성을 갖도록합니다.

난 우수한 광전도

가시광선 범위의 광전도율은 80%를 초과할 수 있어 고투명성 광 필름과 투명 전도성 필름을 제조하는데 적합하다.

난 좋은 전도성 (도파블)

Al, Ga, B와 같은 요소로 도핑함으로써 저항성을 크게 줄일 수 있으며, ITO 투명 전도성 필름에 환경 친화적 인 대안이됩니다.

난 우수한 화학적 안정성

산과 알칼리 부식에 저항하며 고온 및 고 습도 환경에서 안정적인 성능을 유지합니다.

진크 옥시드 타겟 (ZnO) 의 광범위한 응용

난 표시 패널

진크 산화물 표적은 고 투명성 및 전도성 필름을 생산하는 데 사용할 수 있습니다.아연산 표적은 밝기 균일성을 향상시킬 수 있습니다., 반응 속도, 그리고 디스플레이의 수명.

난 광학 기기 제조

진크 산화물 표적은 LED 및 레이저 다이오드와 같은 다양한 광전자 장치를 제조하는 데 사용됩니다.진크 옥시드 필름의 광학적 특성과 전도성은 매우 중요합니다.따라서 퇴적 조건 (온도, 압력 및 퇴적 속도와 같은) 은 정확하게 제어되어야합니다.

난 태양광 산업

아연산 (ZnO) 타겟은 전통적인 인디움 진산 (ITO) 층을 대체하는 매우 투명하고 전도성 필름을 제공함으로써 태양전지 제조에서 핵심 역할을합니다.이 응용 프로그램은 특히 얇은 필름 태양 전지 생산에서 중요합니다., 아연산층의 투명성과 전도성의 최적화가 장치의 전체 효율성을 직접 결정합니다.