China sputtering materials Fabriek van bladzijde 4

Huis Producten sputtering materials Online fabrikant

Uw zoekopdracht
[sputtering materials ]
wedstrijd

Producten

Kristallijn Lanthaantitanaten LaTiO3 Sputter Verdampings Dunne Film Materialen

Krijg Beste Prijs

Ni-verdampingsmaterialen Nikkeldoel met uitstekende ductiliteitshardheid

Krijg Beste Prijs

Cu Verdampingsmaterialen Hoge Geleidbaarheid Koperen Staven Pellets Brokken

Krijg Beste Prijs

Nano Zinn Indium Zink Koper Bismut Cerium Oxide Poeder Voor Galvaniseren

Krijg Beste Prijs

Indium Gallium Zinkoxide Supptering Target (IGZO Supptering Target)

Krijg Beste Prijs

Hoge zuiverheid tantalumpentoxide Ta2O5 voor optische apparaten

Krijg Beste Prijs

Planar Target Bonding Service voor PVD Coating

Krijg Beste Prijs

1 2 3 4

Huis Producten sputtering materials Online fabrikant

Uw zoekopdracht [ sputtering materials ] wedstrijd 55 Producten

Zink Telluride Sputterdoelen (ZnTe) voor Coatingmaterialen

Krijg Beste Prijs

Hoge sterkte Ti titanium doelmaterialen lichtgewicht corrosiebestendigheid

Krijg Beste Prijs

Nikkel-vanadium-sputterdoelen (NiV-sputterdoelen)

Krijg Beste Prijs

Hoogzuiver platina sputterdoel (Pt Target)

Krijg Beste Prijs

Ytterbium Zeldzame Aarde Metaal Sputterdoelen (Yb Sputterdoelen)

Krijg Beste Prijs

Hafniumspuitdoelen (Hf)

Krijg Beste Prijs

Aluminium Neodymium Sputterdoel (AlNd Sputterdoel)

Krijg Beste Prijs

Ringvormig Kwarts SiO2 Sputterdoel voor Vacuümcoating

Krijg Beste Prijs

Hoge Zuiverheid Dy Dysprosium Sputterdoel voor Magnetische Films Optische Coatings

Krijg Beste Prijs

Zirconiumdioxide ZRO2 keramisch voor het verdampen van sputteringcoatingprocessen

Krijg Beste Prijs

RPD ITO-doel voor magnetronsputtering vacuüm verdamping

Krijg Beste Prijs

Sputtering Doelbinding Kleefproces Vriendelijke spanningsbuffering

Krijg Beste Prijs

1 2 3 4 5

sputterend doelmateriaal

Keramische Targets

Metalen spuitdoel

Rare Earth Sputtering Doel

Verdampingsmaterialen

Sputtering Target Bonding Service

Fijn poeder

Elektrische pasta

sputterend doelmateriaal

Keramische Targets

Metalen spuitdoel

Rare Earth Sputtering Doel

Verdampingsmaterialen

Sputtering Target Bonding Service

Fijn poeder

Elektrische pasta

[sputtering materials ]

Kristallijn Lanthaantitanaten LaTiO3 Sputter Verdampings Dunne Film Materialen

Ni-verdampingsmaterialen Nikkeldoel met uitstekende ductiliteitshardheid

Cu Verdampingsmaterialen Hoge Geleidbaarheid Koperen Staven Pellets Brokken

Nano Zinn Indium Zink Koper Bismut Cerium Oxide Poeder Voor Galvaniseren

Indium Gallium Zinkoxide Supptering Target (IGZO Supptering Target)

Hoge zuiverheid tantalumpentoxide Ta2O5 voor optische apparaten

Planar Target Bonding Service voor PVD Coating

sputterend doelmateriaal

Keramische Targets

Metalen spuitdoel

Rare Earth Sputtering Doel

Verdampingsmaterialen

Sputtering Target Bonding Service

Fijn poeder

Elektrische pasta

Zink Telluride Sputterdoelen (ZnTe) voor Coatingmaterialen

Hoge sterkte Ti titanium doelmaterialen lichtgewicht corrosiebestendigheid

Nikkel-vanadium-sputterdoelen (NiV-sputterdoelen)

Hoogzuiver platina sputterdoel (Pt Target)

Ytterbium Zeldzame Aarde Metaal Sputterdoelen (Yb Sputterdoelen)

Hafniumspuitdoelen (Hf)

Aluminium Neodymium Sputterdoel (AlNd Sputterdoel)

Ringvormig Kwarts SiO2 Sputterdoel voor Vacuümcoating

Hoge Zuiverheid Dy Dysprosium Sputterdoel voor Magnetische Films Optische Coatings

Zirconiumdioxide ZRO2 keramisch voor het verdampen van sputteringcoatingprocessen

RPD ITO-doel voor magnetronsputtering vacuüm verdamping

Sputtering Doelbinding Kleefproces Vriendelijke spanningsbuffering