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Bersaglio di sputtering metallico
Processo di sinterizzazione a pressa calda per target di grafite ad alta purezza per sputtering
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Ag Metalico Silver Sputtering Target con elevata conduttività termica elettrica
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Bersaglio di platino per sputtering a magnetron, evaporazione e placcatura ionica
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Target Rotante / Planare di Cromo Personalizzabile per Sputtering Cr
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Metale Niobio Sputtering Target Alta densità bassa resistenza Nb Target
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Ytterbium Yb Metale di terre rare bersaglio di sputtering Uniformità ad alta densità
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Bersaglio di sputtering in oro Au purezza 99,99% con conducibilità estremamente elevata
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Fusione a vuoto Al Aluminio Target Tecnologia moderna del film sottile
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Obiettivo di sputtering di nichel Resistenza alla corrosione Obiettivo piatto Obiettivo rotante
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Ta Metale bersaglio di sputtering di tantallo per rivestimenti duri rivestimenti decorativi
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Target di sputtering di metallo di indio ad alta purezza In Target Tecnologia del film sottile sottovuoto
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Obiettivo rotante / piatto di sputtering di hafnio con punto di fusione elevato
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Mo Metale bersaglio di sputtering di molibdeno bersaglio di sputtering
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Proporzione di tungsteno e titanio WTi 90:10 Dimensioni personalizzabili
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Target di sputtering metallico a rapporto personalizzabile Target di lega di nichel vanadio NiV
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