Alle Kategorien
Treten Sie mit uns in Verbindung
Ziel für Metallsputtern
Hochreine Graphit-Sputtertargets, Heißpressen, Sinterprozess
Erhalten Sie besten Preis
Ag metallische Silber-Sputtertarget mit hoher elektrischer und thermischer Leitfähigkeit
Erhalten Sie besten Preis
Hochreines Platin-Sputtertarget (Pt-Target)
Erhalten Sie besten Preis
Chrom-Sputtertarget (Cr-Sputtertarget), Reinheit: 99,5 % - 99,95 %
Erhalten Sie besten Preis
Metall-Niob-Sputtertarget Hohe Dichte Niedriger Widerstand Nb-Target
Erhalten Sie besten Preis
Ytterbium Yb Seltene Erden Metall Sputtertarget Hohe Dichte Gleichmäßigkeit
Erhalten Sie besten Preis
Gold-Sputtertarget 99,99 % Reinheit (Au-Sputtertarget)
Erhalten Sie besten Preis
Vakuumschmelzen Al Aluminium Ziel Moderne Dünnschichttechnologie
Erhalten Sie besten Preis
Nickel-Sputtertarget Korrosionsbeständigkeit Flach-Target Rotierendes Target
Erhalten Sie besten Preis
Ta-Tantal-Sputtertarget für Hartbeschichtungen und dekorative Beschichtungen
Erhalten Sie besten Preis
Indium-Metall-Sputtertarget Hohe Reinheit In-Target Vakuumdünnschichttechnologie
Erhalten Sie besten Preis
Hafniumspritzerziele (Hf)
Erhalten Sie besten Preis
Molybdän-Sputtertarget (Mo-Sputtertarget)
Erhalten Sie besten Preis
Legierungsziele Nickel-Chrom-Supptering-Target (NiCr-Supptering-Target)
Erhalten Sie besten Preis
WTi-Wolfram-Titanium-Ziel mit einem Verhältnis von 90:10
Erhalten Sie besten Preis
Anpassbares Verhältnis Metall Sputtertarget Nickel Vanadium NiV Legierung Target
Erhalten Sie besten Preis
