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इंडियम टिन लक्ष्य InSn मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य अनुकूलन योग्य अनुपात
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अनुकूलन योग्य अनुपात धातु स्पटरिंग लक्ष्य निकेल वैनेडियम NiV मिश्र धातु लक्ष्य
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फ्लैट / रोटेटिंग AlSc एल्यूमीनियम स्कैंडियम स्पटरिंग टारगेट
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घूर्णन / सपाट हाफनियम स्पटरिंग लक्ष्य उच्च गलनांक एचएफ लक्ष्य
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अनुकूलन योग्य आकार क्रोमियम लक्ष्य रोटरी / प्लैनर सीआर स्पटरिंग लक्ष्य
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उच्च शुद्धता TiAl धातु स्पटरिंग लक्ष्य टाइटेनियम एल्यूमीनियम लक्ष्य
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MoNb धातु स्पटरिंग लक्ष्य उच्च शुद्धता मोलिब्डेनम नाइओबियम लक्ष्य
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प्रेसिजन वाटर चैनल स्पटरिंग लक्ष्य समर्थन प्लेटों बंधन आसंजन > 98%
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SiAI धातु स्पटरिंग लक्ष्य सिलिकॉन एल्यूमीनियम लक्ष्य रासायनिक स्थिरता
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CuNi कॉपर निकल मिश्र धातु लक्ष्य
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डिस्प्ले पैनल टचस्क्रीन के लिए उच्च पारदर्शिता ZnSn लक्ष्य
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उच्च प्रतिरोध GXO लक्ष्य निर्माण प्रक्रिया सिंटरिंग कस्टम शेप्ड
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ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग के लिए एल्यूमीनियम नियोडियम एआईएनडी लक्ष्य
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डब्ल्यूटीआई टंगस्टन टाइटेनियम लक्ष्य अनुपात 90:10 अनुकूलन योग्य आकार
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