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सिरेमिक लक्ष्य
उच्च शुद्धता घनत्व एकरूपता Al2O3 एल्यूमीनियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य
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कोटिंग सामग्री के लिए जिंक टेलुराइड ZnTe सिरेमिक लक्ष्य
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पीवीडी प्रक्रिया के लिए पतली फिल्म ZnO जिंक ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य
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कम्पोजिट ऑक्साइड सिरेमिक लक्ष्य IGZO इंडियम गैलियम जिंक ऑक्साइड लक्ष्य
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सौर ऊर्जा बैटरी के लिए NiOx निकेल ऑक्साइड लक्ष्य सामग्री
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डिस्प्ले टेक्नोलॉजी के लिए इंडियम जिंक ऑक्साइड IZO टारगेट सामग्री
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जिंक टिन ऑक्साइड लक्ष्य ZTO सिरेमिक लक्ष्य सापेक्ष घनत्व ≥98%
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टाइटेनियम बोराइड TiB2 सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्य PVD कोटिंग के लिए
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SiC सिलिकॉन कार्बाइड स्पटरिंग लक्ष्य उच्च तापमान संक्षारण प्रतिरोध
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InCeO इंडियम सेरियम ऑक्साइड लक्ष्य उच्च पारगम्यता कम प्रतिरोध
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उच्च प्रतिरोध GXO लक्ष्य निर्माण प्रक्रिया सिंटरिंग कस्टम शेप्ड
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CrC क्रोमियम कार्बाइड स्पटरिंग लक्ष्य पीवीडी कोटिंग के लिए संक्षारण प्रतिरोध
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हार्ड कोटिंग्स के लिए टीआईएन टाइटेनियम नाइट्राइड स्पटरिंग लक्ष्य
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स्पटरिंग पल्स्ड लेजर डिपोजिशन के लिए नाइओबियम ऑक्साइड Nb2O5 टारगेट
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एल्यूमीनियम डोप्ड जस्ता ऑक्साइड लक्ष्य उच्च घनत्व AZO स्पटरिंग लक्ष्य
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