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[alloy sputtering target ]
Übereinstimmung14
produitsIndium-Zinn-Target InSn-Legierung Sputtertarget Anpassbares Verhältnis
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Anpassbares Verhältnis Metall Sputtertarget Nickel Vanadium NiV Legierung Target
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Flat / Rotating AlSc Aluminium Scandium Sputtering Ziel
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Rotierende / Flache Hafnium-Sputtertargets mit hohem Schmelzpunkt Hf-Target
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Anpassbarer Größe Chrom-Ziel Dreh- / Flächen-Cr-Sputter-Ziel
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Hochreine TiAl-Metallsputtertargets Titan-Aluminium-Target
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MoNb Metallsputtering Ziel hochreine Molybdän Niobium Ziel
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Präzisionswasserkanalsputtern Zielstützplatten Bindungsabhängigkeit > 98%
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SiAI Metallsputtering Ziel Silizium Aluminium Ziel Chemische Stabilität
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Verschleißbeständigkeit Legierungsziele CuNi Kupfer Nickel-Ziele
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Hochtransparente ZnSn-Targets für Display-Panels und Touchscreens
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Hochwiderstandsfähiger GXO-Target-Formgebungsprozess Sintern Kundenspezifisch Geformt
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Aluminium Neodym AINd Ziel für die Optoelektronikindustrie
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WTi-Wolfram-Titanium-Ziel mit einem Verhältnis von 90:10
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