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उत्पादों का विवरण

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सिरेमिक लक्ष्य
Created with Pixso. इंडियम गैलियम जिंक ऑक्साइड सप्टरिंग लक्ष्य (आईजीजेडओ सप्टरिंग लक्ष्य)
विस्तृत जानकारी
उत्पत्ति के प्लेस:
चीन
प्रमाणन:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
पवित्रता:
99.99%
घनत्व:
≥6.30 ग्राम/सेमी³
नाम:
इंडियम गैलियम जिंक ऑक्साइड सपरेटिंग लक्ष्य (आईजीजेडओ सपरेटिंग लक्ष्य)
गठन प्रक्रिया:
सिन्टिंग
उत्पाद विशिष्टताएँ:
सपाट लक्ष्य, रोटरी लक्ष्य
अनुप्रयोग फ़ील्ड:
डिस्प्ले पैनल, स्मार्ट मोबाइल डिवाइस, लचीले और पहनने योग्य इलेक्ट्रॉनिक्स, नई ऊर्जा और कम-शक्ति वाले
पैकेजिंग विवरण:
वैक्यूम-सीलबंद पैकेजिंग, भंडारण और परिवहन के लिए केस-पैक
आपूर्ति की क्षमता:
स्थिर आपूर्ति
प्रमुखता देना:

इंडियम गैलियम जिंक ऑक्साइड सप्लायरिंग लक्ष्य

,

IGZO सप्लायरिंग लक्ष्य

,

IGZO सिरेमिक लक्ष्य

उत्पाद का वर्णन

इंडियम गैलियम जिंक ऑक्साइड स्पटरिंग टारगेट, या इंडियम गैलियम जिंक ऑक्साइड टारगेट, एक बहु-घटक मिश्रित ऑक्साइड सिरेमिक टारगेट है जो इंडियम ऑक्साइड (In₂O₃), गैलियम ऑक्साइड (Ga₂O₃), और जिंक ऑक्साइड (ZnO) को एक विशिष्ट अनुपात में मिलाकर और सिंटरिंग करके बनाया जाता है। इसका व्यापक रूप से उच्च-प्रदर्शन IGZO थिन-फिल्म ट्रांजिस्टर (TFTs) तैयार करने के लिए मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग (PVD) प्रक्रियाओं में उपयोग किया जाता है।

पारंपरिक अनाकार सिलिकॉन और जिंक ऑक्साइड सामग्री की तुलना में, IGZO स्पटरिंग टारगेट में उच्च गतिशीलता, कम रिसाव वर्तमान और बेहतर पारदर्शिता होती है, जो इसे अगली पीढ़ी के उच्च-रिज़ॉल्यूशन डिस्प्ले पैनल (जैसे OLED, 4K, 8K) के लिए एक मुख्य सामग्री बनाती है।

इंडियम गैलियम जिंक ऑक्साइड स्पटरिंग टारगेट के उत्कृष्ट गुण

 

l उच्च इलेक्ट्रॉन गतिशीलता

 

अनाकार सिलिकॉन की तुलना में लगभग 10 गुना, TFTs की प्रतिक्रिया गति को काफी बढ़ाता है।

 

 l कम रिसाव वर्तमान और कम बिजली की खपत

 

इंडियम गैलियम जिंक ऑक्साइड स्पटरिंग टारगेट ऊर्जा-कुशल डिस्प्ले उपकरणों और पोर्टेबल इलेक्ट्रॉनिक उत्पादों के लिए उपयुक्त है।

 

 l उत्कृष्ट ऑप्टिकल पारदर्शिता

 

उच्च ट्रांसमिटेंस, जो इसे उच्च-चमक डिस्प्ले अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त बनाता है।


 l कम-तापमान फिल्म निर्माण संगतता

 

कम तापमान पर जमा किया जा सकता है, जो इसे लचीले डिस्प्ले के लिए उपयुक्त बनाता है।

 

 l उच्च स्थिरता और एकरूपता


इंडियम गैलियम जिंक ऑक्साइड स्पटरिंग टारगेट फिल्मों में घने और स्थिर संरचनाएं होती हैं, जो उन्हें बड़े पैमाने पर उत्पादन आवश्यकताओं के अनुकूल बनाती हैं।

 

इंडियम गैलियम जिंक ऑक्साइड स्पटरिंग टारगेट के व्यापक अनुप्रयोग

 

l डिस्प्ले पैनल

 

इंडियम गैलियम जिंक ऑक्साइड स्पटरिंग टारगेट एक उच्च-गुणवत्ता वाला TFT सामग्री है जो पारंपरिक अनाकार सिलिकॉन और LTPS को प्रतिस्थापित करता है। इसका व्यापक रूप से उच्च-रिज़ॉल्यूशन डिस्प्ले उपकरणों में उपयोग किया जाता है, छवि ताज़ा दर और प्रतिक्रिया गति में सुधार करता है, बिजली की खपत को कम करता है, और बड़े आकार और उच्च-चमक डिस्प्ले के लिए उपयुक्त है।

 

 l स्मार्ट मोबाइल डिवाइस

 

स्मार्टफोन, टैबलेट और अन्य मोबाइल उपकरणों में, IGZO डिस्प्ले प्रदर्शन और बैटरी जीवन को महत्वपूर्ण रूप से अनुकूलित करता है, पतले डिज़ाइन का समर्थन करता है, बैटरी जीवन बढ़ाता है, और स्पर्श अनुभव को बेहतर बनाता है।

 

 

 l लचीले और पहनने योग्य इलेक्ट्रॉनिक्स

 

इंडियम गैलियम जिंक ऑक्साइड स्पटरिंग टारगेट कम-तापमान फिल्म निर्माण प्रक्रियाओं के लिए उपयुक्त है और इसे प्लास्टिक और PI जैसे लचीले सब्सट्रेट पर जमा किया जा सकता है। इसका व्यापक रूप से लचीले फोन, ई-बुक्स, इलेक्ट्रॉनिक पेपर, स्मार्टवॉच, स्मार्ट ग्लास और अन्य पहनने योग्य उपकरणों में उपयोग किया जाता है, जो लचीली प्रक्रियाओं के साथ संगत है, समान फिल्म निर्माण और स्थिर प्रदर्शन सुनिश्चित करता है।

 

 l नई ऊर्जा और कम-शक्ति इलेक्ट्रॉनिक उपकरण

 

IGZO स्पटरिंग टारगेट का कम रिसाव वर्तमान और उच्च स्थिरता इसे उन उपकरणों के लिए आदर्श बनाता है जिन्हें औद्योगिक अनुप्रयोगों में दीर्घकालिक स्थिर संचालन की आवश्यकता होती है। यह ऊर्जा-कुशल लैपटॉप, ई-रीडर, स्मार्ट होम कंट्रोल स्क्रीन, IoT टर्मिनल, AR/VR हेडसेट के लिए उपयुक्त है, जो अत्यंत कम रिसाव वर्तमान, विस्तारित स्टैंडबाय समय और बेहतर उपयोगकर्ता अनुभव प्रदान करता है।