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[semiconductor materials ]
मिलान47
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ऑप्टिकल डिवाइस सेमीकंडक्टर के लिए उच्च शुद्धता टैंटलम पेंटोक्साइड Ta2O5
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इंडियम ब्लॉक में पतली फिल्म वाष्पीकरण स्पटरिंग सामग्री
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उत्कृष्ट तन्यता और मजबूती वाली Ni वाष्पीकरण सामग्री निकेल लक्ष्य
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अकार्बनिक वाष्पीकरण सामग्री उच्च अपवर्तक सूचकांक के साथ नाइओबियम ऑक्साइड Nb2O5
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उच्च शक्ति टी टाइटेनियम लक्ष्य सामग्री हल्के संक्षारण प्रतिरोध
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Cu वाष्पीकरण सामग्री उच्च चालकता तांबे के सिल्लियां छर्रों के टुकड़े
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जिंक टेलुराइड स्पटरिंग टारगेट (ZnTe) कोटिंग सामग्री के लिए
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जिंक स्पटरिंग लक्ष्य (Zn स्पटरिंग लक्ष्य) पतली फिल्म सामग्री
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नाइओबियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य (Nb₂Oₓ स्पटरिंग लक्ष्य)
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निकेल ऑक्साइड सप्लायरिंग लक्ष्य(NiOx सप्लायरिंग लक्ष्य)
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हाफनियम स्पटरिंग लक्ष्य (Hf)
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मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य(मो स्पटरिंग लक्ष्य)
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कठोर कोटिंग्स के लिए टाइटेनियम नाइट्राइड स्पटरिंग लक्ष्य (TiN स्पटरिंग लक्ष्य)
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वैक्यूम कोटिंग के लिए रिंग के आकार का क्वार्ट्ज SiO2 स्पटरिंग लक्ष्य
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सिलिकॉन-एल्यूमीनियम स्पटरिंग लक्ष्य (SiAl स्पटरिंग लक्ष्य)
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