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[ceramic sputtering targets ]
मिलान12
उत्पादोंटाइटेनियम बोराइड TiB2 सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्य PVD कोटिंग के लिए
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हार्ड कोटिंग्स के लिए टीआईएन टाइटेनियम नाइट्राइड स्पटरिंग लक्ष्य
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इंडियम धातु स्पटरिंग लक्ष्य लक्ष्य वैक्यूम पतली फिल्म प्रौद्योगिकी में उच्च शुद्धता
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स्पटरिंग लक्ष्य बंधन चिपकने वाली प्रक्रिया अनुकूल तनाव बफरिंग
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CrC क्रोमियम कार्बाइड स्पटरिंग लक्ष्य पीवीडी कोटिंग के लिए संक्षारण प्रतिरोध
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SiC सिलिकॉन कार्बाइड स्पटरिंग लक्ष्य उच्च तापमान संक्षारण प्रतिरोध
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स्पटरिंग पल्स्ड लेजर डिपोजिशन के लिए नाइओबियम ऑक्साइड Nb2O5 टारगेट
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कम्पोजिट ऑक्साइड सिरेमिक लक्ष्य IGZO इंडियम गैलियम जिंक ऑक्साइड लक्ष्य
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जिंक टिन ऑक्साइड लक्ष्य ZTO सिरेमिक लक्ष्य सापेक्ष घनत्व ≥98%
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कोटिंग सामग्री के लिए जिंक टेलुराइड ZnTe सिरेमिक लक्ष्य
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नैनो टिन इंडियम जिंक कॉपर बिस्मथ सेरियम ऑक्साइड पाउडर इलेक्ट्रोप्लेटिंग के लिए
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