टाइटेनियम बोराइड स्पटरिंग लक्ष्य (TiB2 सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्य)

टाइटेनियम बोराइड स्पटरिंग लक्ष्य उच्च शुद्धता TiB2 पाउडर से गर्म प्रेसिंग या सिंटरिंग प्रक्रियाओं के माध्यम से निर्मित सिरेमिक लक्ष्य हैं।वे उच्च पिघलने बिंदु और उच्च कठोरता के साथ कार्यात्मक सामग्री हैंधातु टाइटेनियम की उत्कृष्ट रासायनिक स्थिरता को बोराइड की उच्च कठोरता, पहनने के प्रतिरोध और संक्षारण प्रतिरोध के साथ जोड़कर, TiB2 लक्ष्य असाधारण प्रदर्शन प्रदान करते हैं।इन लक्ष्यों का व्यापक रूप से विभिन्न कोटिंग प्रक्रियाओं में उपयोग किया जाता है, जिसमें भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी), मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग और रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) शामिल हैं, जो विभिन्न सब्सट्रेट पर उच्च प्रदर्शन वाले सिरेमिक पतली फिल्मों की जमाव को सक्षम बनाता है।

टाइटेनियम बोराइड स्पटरिंग लक्ष्य के उत्कृष्ट गुण

मैं अति उच्च कठोरता और पहनने के प्रतिरोध

जमा की गई फिल्म 3000 HV से अधिक की विकर्स कठोरता प्राप्त कर सकती है, जिससे सतह के खरोंच प्रतिरोध और पहनने के प्रतिरोध में काफी वृद्धि होती है।

मैं उत्कृष्ट जंग और ऑक्सीकरण प्रतिरोध

फिल्में अम्लीय, क्षारीय और उच्च तापमान ऑक्सीकरण वातावरण में स्थिर रहती हैं, प्रतिक्रिया और अपघटन का विरोध करती हैं,उन्हें कठोर परिचालन स्थितियों में सुरक्षात्मक कोटिंग के लिए उपयुक्त बनाना.

मैं अच्छी विद्युत और ताप चालकता

पारंपरिक सिरेमिक के विपरीत, टाइटेनियम डिबोराइड में विद्युत और ताप चालकता का उल्लेखनीय स्तर है।यह अद्वितीय गुण इसे उन्नत कार्यात्मक कोटिंग्स के लिए उपयुक्त बनाता है जिनके लिए असाधारण कठोरता और प्रवाहकीय क्षमता दोनों की आवश्यकता होती है.

मैं अच्छा आसंजन और फिल्म घनत्व

उच्च शुद्धता वाले टाइटेनियम बोराइड स्पटरिंग का उपयोग करके टारगेट मजबूत आसंजन के साथ घनी, समान फिल्मों के गठन को सक्षम करता है, उत्पाद स्थिरता और विश्वसनीयता में सुधार करता है।

टाइटेनियम बोराइड स्पटरिंग लक्ष्य के व्यापक अनुप्रयोग

मैं Display पैनल

एलसीडी, ओएलईडी और मिनी/माइक्रो-एलईडी जैसे उच्च अंत डिस्प्ले के निर्माण में,इंडियम सीरियम ऑक्साइड के लक्ष्य को डिस्प्ले पैनल इलेक्ट्रोड और इंटरकनेक्शन के लिए उच्च पारदर्शी प्रवाहकीय फिल्मों के साथ उच्च पारगम्यता और कम प्रतिरोध के साथ स्पटर किया जा सकता है, चमक एकरूपता, कंट्रास्ट और सेवा जीवन में काफी सुधार करता है।

मैं टचस्क्रीन तकनीक

टच उत्पादों जैसे कि स्मार्टफोन, टैबलेट, ऑटोमोबाइल डिस्प्ले और औद्योगिक नियंत्रण पैनल में, टाइटेनियम डिबोराइड फिल्में पारंपरिक आईटीओ फिल्मों को टच इलेक्ट्रोड के रूप में बदल सकती हैं।तेजी से प्रतिक्रिया प्रदान करना, बेहतर पारगम्यता, और लचीलापन संगतता में सुधार, संकीर्ण बेज़ल्स और बड़े आकार के टचस्क्रीन डिजाइनों का समर्थन करना।

 मैं फोटोवोल्टिक उद्योग

उच्च दक्षता वाले सौर कोशिकाओं जैसे एचजेटी और पेरोवस्किट टैंडेम कोशिकाओं में, उनका उपयोग श्रृंखला प्रतिरोध को कम करने के लिए पारदर्शी प्रवाहकीय इलेक्ट्रोड सामग्री के रूप में किया जाता है,फोटोइलेक्ट्रिक रूपांतरण दक्षता में सुधार, और अगली पीढ़ी के फोटोवोल्टिक मॉड्यूल के लिए उच्च-प्रदर्शन वाले चालक समाधान प्रदान करके स्थिरता में वृद्धि करते हैं।

मैं लचीला इलेक्ट्रॉनिक्स

टाइटेनियम बोराइड स्पटरिंग लक्ष्य को लचीले पारदर्शी इलेक्ट्रोड बनाने के लिए पॉलीमाइड (पीआई) और पीईटी जैसे लचीले सब्सट्रेट पर स्पटर किया जा सकता है।उभरते उत्पादों जैसे कि फोल्डेबल डिस्प्ले में लागू होता है, पहनने योग्य उपकरण, और लचीले सेंसर।

मैं ऑप्टिकल उपकरणों का निर्माण

उनका उपयोग ऑप्टिकल ग्लास, ऑप्टिकल फिल्म स्टैक, फिल्टर और एंटी रिफ्लेक्शन कोटिंग्स को कोटिंग करने के लिए किया जाता है, उच्च पारगम्यता बनाए रखते हुए चालक या एंटीस्टेटिक गुण प्रदान करते हैं,परिशुद्धता ऑप्टिकल क्षेत्रों जैसे ऑप्टिकल संचार और ऑप्टिकल सेंसिंग के लिए उपयुक्त.