वाष्पीकरण स्पटरिंग कोटिंग प्रक्रियाओं के लिए जिरकोनियम डाइऑक्साइड ZRO2 सिरेमिक

ज़िरकोनियम डाइऑक्साइड (ZrO2) एक उच्च प्रदर्शन कार्यात्मक सिरेमिक सामग्री है जिसका उपयोग आमतौर पर वाष्पीकरण और स्पटरिंग कोटिंग प्रक्रियाओं में किया जाता है। इसका उच्च पिघलने बिंदु (लगभग 2700°C) है,कम थर्मल चालकताजमाव के दौरान, सामग्री ऑप्टिक रूप से पारदर्शी, समान और रासायनिक रूप से निष्क्रिय परतें बनाती है जो अपघटन का विरोध करती हैं।इन मजबूत विशेषताओं ने ऑप्टिकल कोटिंग्स में इसके व्यापक उपयोग की सुविधा प्रदान की है, अर्धचालक निर्माण, फोटोवोल्टिक उद्योग और उच्च अंत सजावटी परिष्करण।

ज़िरकोनियम डाइऑक्साइड की उल्लेखनीय विशेषताएं

मैं उच्च ऑप्टिकल प्रदर्शन

यह दृश्य और निकट अवरक्त स्पेक्ट्रम में उच्च पारगम्यता है, जो इसे बहुपरत हस्तक्षेप फिल्मों जैसे ऑप्टिकल फिल्म डिजाइनों के लिए उच्च अपवर्तन सूचकांक सामग्री के रूप में उपयुक्त बनाता है,प्रतिबिंब विरोधी कोटिंग्स, और परावर्तक फिल्मों.

मैं उत्कृष्ट थर्मल स्थिरता

उच्च पिघलने का बिंदु और कम थर्मल चालकता उच्च तापमान प्रक्रियाओं के तहत आसानी से वाष्पीकरण या अपघटन के बिना एक स्थिर संरचना बनाए रखने की अनुमति देती है।

मैं उत्कृष्ट यांत्रिक गुण

बेहतर खरोंच प्रतिरोध और उच्च सतह कठोरता के साथ, ये फिल्में उच्च पहनने वाले वातावरण और महत्वपूर्ण औद्योगिक अनुप्रयोगों के लिए आवश्यक दीर्घकालिक स्थायित्व प्रदान करती हैं।

मैं मजबूत रासायनिक स्थिरता

यह एसिड और क्षार क्षरण के प्रतिरोधी है और अन्य पदार्थों के साथ आसानी से प्रतिक्रिया नहीं करता है, जिससे जटिल वातावरण में फिल्म की स्थिरता सुनिश्चित होती है।

मैं अच्छा घनत्व

बनी फिल्म समान और घनी होती है जो उपकरणों की स्थायित्व और कार्यक्षमता को बढ़ाने में मदद करती है।

ज़िरकोनियम डाइऑक्साइड के व्यापक अनुप्रयोग

मैं ऑप्टिकल उपकरण निर्माण

यह उच्च पारगम्यता, पहनने के प्रतिरोध और स्थिर ऑप्टिकल प्रदर्शन प्रदान करता है और व्यापक रूप से कैमरा लेंस, प्रोजेक्शन लेंस, ऑप्टिकल फिल्टर, लेजर ऑप्टिकल डिवाइस और धूप के चश्मे में उपयोग किया गया है।

मैं इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग

इसका उपयोग कैपेसिटर, हाई-के गेट डायलेक्ट्रिक फिल्म और अर्धचालक उपकरणों और एकीकृत सर्किट में इन्सुलेटिंग लेयर सामग्री के लिए एक डाइलेक्ट्रिक परत के रूप में किया जाता है,अगली पीढ़ी के इलेक्ट्रॉनिक्स में उच्च घनत्व एकीकरण और उन्नत उपकरण कार्यक्षमता के लिए कठोर आवश्यकताओं को पूरा करना.

मैं फोटोवोल्टिक उद्योग

सौर कोशिकाओं में प्रकाश अवशोषण दक्षता में सुधार, ऊर्जा हानि को कम करने और कोशिकाओं के सेवा जीवन को बढ़ाने के लिए कार्यात्मक परतों और सुरक्षात्मक फिल्मों के रूप में उपयोग किया जाता है।

मैं लो-ई ग्लास

वास्तुशिल्प कांच, ऑटोमोबाइल कांच, घड़ी क्रिस्टल और सजावटी फिल्मों में उपयोग किया जाता है, जो पहनने के प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध और सौंदर्य की अपील प्रदान करता है।