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मिलान55
उत्पादोंइंडियम ब्लॉक में पतली फिल्म वाष्पीकरण स्पटरिंग सामग्री
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चीनी तांबा स्पटरिंग लक्ष्य(Cu स्पटरिंग लक्ष्य)
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सिलिकॉन स्पटरिंग टारगेट (Si स्पटरिंग टारगेट)
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जिंक ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य (ZnO स्पटरिंग लक्ष्य)
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जिंक स्पटरिंग लक्ष्य (Zn स्पटरिंग लक्ष्य) पतली फिल्म सामग्री
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सिल्वर स्पटरिंग लक्ष्य ((एजी स्पटरिंग लक्ष्य)
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इंडियम स्पटरिंग लक्ष्य (स्पटरिंग लक्ष्य में)
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कॉपर-निकल स्पटरिंग लक्ष्य (CuNi स्पटरिंग लक्ष्य)
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इंडियम टिन ऑक्साइड (आईटीओ) स्पटरिंग लक्ष्य
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मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य(मो स्पटरिंग लक्ष्य)
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एल्यूमिनियम-डोप्ड जिंक ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य (एज़ो स्पटरिंग लक्ष्य)
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एल्यूमिनियम स्पटरिंग लक्ष्य (अल स्पटरिंग लक्ष्य)
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उच्च शुद्धता टाइटेनियम एल्युमीनियम स्पटरिंग लक्ष्य (TiAl स्पटरिंग लक्ष्य)
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सिलिकॉन कार्बाइड स्पटरिंग लक्ष्य (SiC स्पटरिंग लक्ष्य)
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इंडियम सेरियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य (आईसीओ स्पटरिंग लक्ष्य)
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