टाइटेनियम ऑक्साइड रोटरी स्पटरिंग लक्ष्य (टायॉक्स स्पटरिंग लक्ष्य)

टाइटेनियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य सिरेमिक लक्ष्य होते हैं जो उच्च-शुद्धता वाले टाइटेनियम डाइऑक्साइड (TiOx) से बने होते हैं, जिनका उत्पादन हॉट-प्रेस सिंटरिंग या कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग जैसी प्रक्रियाओं के माध्यम से किया जाता है। इसमें उच्च कठोरता, उच्च गलनांक (लगभग 1855°C) और उत्कृष्ट रासायनिक स्थिरता जैसी विशेषताएं होती हैं, जो इसे ऑप्टिकल और कार्यात्मक फिल्में बनाने के लिए मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग के लिए एक महत्वपूर्ण सामग्री बनाती है।

टाइटेनियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य (TiOx) के उत्कृष्ट गुण

l उच्च शुद्धता फिल्म की गुणवत्ता सुनिश्चित करती है

टाइटेनियम ऑक्साइड लक्ष्यों में आमतौर पर 99.9% से अधिक की शुद्धता होती है, जिसमें बहुत कम अशुद्धता सामग्री होती है, जो प्रभावी रूप से फिल्म दोषों को कम करती है और ऑप्टिकल और विद्युत प्रदर्शन स्थिरता में सुधार करती है।

l उत्कृष्ट रासायनिक स्थिरता

टाइटेनियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य एसिड और क्षार संक्षारण के प्रतिरोधी होते हैं, जो उच्च तापमान और उच्च आर्द्रता जैसे कठोर वातावरण में स्थिर प्रदर्शन बनाए रखते हैं, जो फिल्मों के जीवनकाल को बढ़ाता है।

l उत्कृष्ट ऑप्टिकल गुण

इसमें उच्च अपवर्तक सूचकांक और उत्कृष्ट पारगम्यता होती है, जो उच्च-प्रदर्शन ऑप्टिकल फिल्मों के उत्पादन को सक्षम बनाती है जो एंटी-रिफ्लेक्शन कोटिंग्स (AR), एंटी-ग्लेयर कोटिंग्स, आदि के लिए उपयुक्त हैं।

l घना और समान सूक्ष्म संरचना

उन्नत बनाने और सिंटरिंग प्रक्रियाओं का उपयोग करके, टाइटेनियम ऑक्साइड लक्ष्य सामग्री में महीन और समान कण होते हैं, जो स्थिर फिल्म जमाव दर और अच्छी मोटाई स्थिरता सुनिश्चित करते हैं।

l अच्छी यांत्रिक शक्ति और गर्मी प्रतिरोध

लगभग 1855°C के गलनांक के साथ, टाइटेनियम ऑक्साइड लक्ष्य उच्च-शक्ति स्पटरिंग स्थितियों के तहत टूटने या क्षति के प्रतिरोधी होते हैं, जो उन्हें दीर्घकालिक निरंतर उत्पादन के लिए उपयुक्त बनाते हैं।

 टाइटेनियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य (TiOx) के व्यापक अनुप्रयोग

l ऑप्टिकल डिवाइस निर्माण

टाइटेनियम ऑक्साइड लक्ष्यों का उपयोग ऑप्टिकल लेंस, एंटी-रिफ्लेक्शन कोटिंग्स (AR कोटिंग्स), एंटी-ग्लेयर फिल्मों और ऑप्टिकल फिल्टर के लिए उच्च अपवर्तक सूचकांक फिल्मों का उत्पादन करने के लिए किया जाता है, जिससे प्रकाश पारगम्यता और छवि गुणवत्ता में सुधार होता है।

l फोटोवोल्टिक उद्योग

पारदर्शी प्रवाहकीय फिल्मों (TCO) में सुरक्षात्मक या कार्यात्मक परतों के रूप में उपयोग किया जाता है, टाइटेनियम ऑक्साइड लक्ष्य प्रकाश अवशोषण दक्षता और डिवाइस स्थिरता में सुधार करते हैं, जिनका व्यापक रूप से सौर कोशिकाओं और फोटोकैटेलिटिक फिल्मों के उत्पादन में उपयोग किया जाता है।

l सेमीकंडक्टर निर्माण

टाइटेनियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्यों का उपयोग डाइइलेक्ट्रिक परतों, सुरक्षात्मक फिल्मों और इन्सुलेटिंग सामग्री के रूप में चिप्स और इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों की स्थिरता और इन्सुलेशन प्रदर्शन को बेहतर बनाने के लिए किया जाता है।

l कम-उत्सर्जन (लो-ई) ऊर्जा-बचत ग्लास

टाइटेनियम ऑक्साइड लक्ष्य प्रमुख कार्यात्मक परत सामग्री के रूप में काम करते हैं जिन्हें कांच के गर्मी इन्सुलेशन और प्रकाश पारगम्यता में सुधार करने के लिए डिज़ाइन किया गया है। ये गुण प्रभावी रूप से ऊर्जा की खपत को कम करते हैं, जिससे उन्नत भवन ऊर्जा-बचत समाधानों में उनका व्यापक अनुप्रयोग होता है।