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Keramikziele
Hochreine Aluminiumoxid-Sputtertargets (Al₂O₃-Sputtertarget)
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Zink-Tellurid-Sputterziele für Beschichtungsmaterialien
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Zinkoxid-Sputtertargets (ZnO-Sputtertarget)
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Titanoxid-Rotationssputtertarget (Tiox-Sputtertarget)
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Indium-Gallium-Zinkoxid-Suppenziel (IGZO-Suppenziel)
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Nickeloxid-Supptering-Target (NiOx-Supptering-Target)
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Indium-Zinkoxid-Supptering-Target (IZO-Supptering-Target)
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Zink-Zinn-Oxid-Sputtertargets, keramische Targets (ZTO-Sputtertargets), relative Dichte ≥98 %
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Indium-Ceroxid-Sputtertargets (ICO-Sputtertargets)
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Siliziumkarbid-Sputtertargets (SiC-Sputtertarget)
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Titanborid-Sputtertarget (TiB2-Keramik-Sputtertarget)
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Hochohm-Sputtertarget (GXO Sputtertarget)
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Chromkarbid-Sputtertarget (CrC-Sputtertarget)
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Titannitrid-Sputtertarget für Hartbeschichtungen (TiN-Sputtertarget)
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Aluminiumdotierte Zinkoxid-Targets Hochdichte AZO-Sputtertargets
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Nioboxid-Sputtertarget (Nb₂Oₓ-Sputtertarget)
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