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Keramikziele
Hochreinigkeitsdichte Einheitlichkeit Al2O3 Aluminiumoxid-Sputterziel
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Zinktellurid ZnTe Keramische Targets für Beschichtungsmaterialien
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Dünnschicht-ZnO-Zinkoxid-Sputtertarget für PVD-Prozess
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Titandioxid TiOx Keramiktargets Hohe Reinheit für das Feld der Optoelektronik
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Verbundoxid-Keramiktargets IGZO Indium-Gallium-Zinkoxid-Target
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NiOx-Nickeloxid-Zielmaterial für Solarbatterien
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Indium-Zink-Oxid IZO Zielmaterial für die Anzeigetechnologie
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Zink-Zinn-Oxid-Ziel ZTO Keramik-Ziel Relative Dichte ≥98%
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Titanborid TiB2 Keramik-Sputterziel für PVD-Beschichtung
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SiC Siliziumkarbid Sputtertarget Hochtemperaturkorrosionsbeständigkeit
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InCeO Indium-Cer-Oxid Target Hohe Transmission Niedriger Widerstand
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Hochwiderstandsfähiger GXO-Target-Formgebungsprozess Sintern Kundenspezifisch Geformt
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CrC Chromcarbid-Sputtertarget Korrosionsbeständigkeit für PVD-Beschichtung
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Ziel für das Sputtern von TiN-Titannitrid für harte Beschichtungen
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Nioboxid Nb2O5 Target für Sputtern und Pulsed Laser Deposition
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Aluminiumdotierte Zinkoxid-Targets Hochdichte AZO-Sputtertargets
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