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Bersagli Ceramici
Uniformità ad alta densità di purezza Al2O3 Ossido di alluminio bersaglio di sputtering
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Bersagli ceramici di tellururo di zinco ZnTe per materiali di rivestimento
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Filtro sottile ZnO Ossido di zinco bersaglio di sputtering per il processo PVD
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Ossidi di titanio TiOx bersagli ceramici alta purezza per il campo optoelettronico
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Obiettivi ceramici per ossidi compositi IGZO Obiettivo per ossidi di indio gallio zinco
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Materiale bersaglio di ossido di nichel NiOx per batterie di energia solare
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Materiale Target Ossido di Indio e Zinco IZO per Tecnologia Display
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Bersaglio di ossido di zinco e stagno ZTO Bersagli ceramici Densità relativa ≥98%
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Titanio boruro TiB2 bersaglio di sputtering ceramico per rivestimento PVD
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Risistenza alla corrosione ad alte temperature
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InCeO Indium Cerium Oxide Target Alta trasmissibilità bassa resistività
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Processo di Formazione Target GXO ad Alta Resistenza Sinterizzazione Sagomato Personalizzato
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CrC Carburo di cromo Sputtering Target Resistenza alla corrosione per rivestimento PVD
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Obiettivo per lo sputtering del nitruro di titanio per rivestimenti duri
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Bersaglio di Ossido di Niobio Nb2O5 per Deposizione Laser Pulsata a Sputtering
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Bersaglio di Ossido di Zinco Dopato con Alluminio ad Alta Densità Bersaglio di Sputtering AZO
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