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商品の詳細

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蒸発材料
Created with Pixso. 不有機蒸発材料 高屈折率のニオビウム酸化物 Nb2O5
詳細情報
起源の場所:
中国
証明:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
屈折率:
2.1～2.35（500nm）
透明バンド:
350～9000nm
名前:
酸化ニオブ (Nb₂O₅)
形成プロセス:
粉末冶金、ホットプレス焼結
製品仕様:
蒸発粒子
応用分野:
半導体製造、光デバイス製造、太陽光発電産業
パッケージの詳細:
真空密封包装、保管および輸送用にケース詰め
供給の能力:
安定した供給
ハイライト:

ナイオビウム酸化物 Nb2O5

,

蒸発材料 Nb2O5

,

不有機蒸発材料

製品の説明

酸化ニオブ（Nb₂O₅）は高性能無機機能材料であり、真空蒸着コーティング、電子ビーム蒸着などに一般的に使用されています。この材料は高い屈折率、優れた誘電特性、良好な化学的安定性を持ち、光学膜、電子デバイス、機能層の作製に広く利用されており、ハイエンド光学およびマイクロエレクトロニクス分野において不可欠なキーマテリアルの1つとなっています。

酸化ニオブの優れた特性

 

l 高い屈折率


酸化ニオブ膜は、500nmで2.1～2.35という高い屈折率を持ち、干渉コーティング、反射コーティング、光学フィルターなどの多層光学膜の作製に適しています。

  

l 優れた誘電特性

良好な透明性と低い吸収特性を持ち、可視光から近赤外線波長域の光学部品に適しています。

 

l 高い誘電率

高誘電率（high-k）誘電体材料として、静電容量性能を効果的に向上させ、半導体デバイスの小型化・高性能化の要求に応えます。

 

l 強い化学的安定性

高温、高湿度、化学的に腐食性の環境下でも安定した性能を維持し、デバイスの寿命を延ばします。

 

酸化ニオブの幅広い応用

l 半導体製造

高誘電率（high-k）誘電体材料として、コンデンサやトランジスタなどのコア部品に使用され、低消費電力・高性能なマイクロエレクトロニクスデバイスを実現します。

 

l 光学デバイス製造

光学フィルター、反射防止コーティング、干渉コーティング、光学レンズコーティングなどの高精度光学膜の設計に広く使用され、デバイスの透過率と耐久性を効果的に向上させます。

 

l 太陽電池産業

薄膜太陽電池の機能層として使用され、光電変換効率を向上させると同時に、デバイスの安定性と寿命を延ばします。