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उत्पादों का विवरण

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वाष्पीकरण सामग्री
Created with Pixso. अकार्बनिक वाष्पीकरण सामग्री उच्च अपवर्तक सूचकांक के साथ नाइओबियम ऑक्साइड Nb2O5
विस्तृत जानकारी
उत्पत्ति के प्लेस:
चीन
प्रमाणन:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
अपवर्तनांक:
2.1-2.35(500एनएम)
पारदर्शी बैंड:
350-9000nm
नाम:
नाइओबियम ऑक्साइड (Nb₂O₅)
गठन प्रक्रिया:
पाउडर धातुकर्म, हॉट प्रेसिंग सिंटरिंग
उत्पाद विशिष्टताएँ:
वाष्पीकरण कण
अनुप्रयोग फ़ील्ड:
सेमीकंडक्टर विनिर्माण, ऑप्टिकल डिवाइस विनिर्माण, फोटोवोल्टिक उद्योग
पैकेजिंग विवरण:
वैक्यूम-सीलबंद पैकेजिंग, भंडारण और परिवहन के लिए केस-पैक
आपूर्ति की क्षमता:
स्थिर आपूर्ति
प्रमुखता देना:

निओबियम ऑक्साइड Nb2O5

,

वाष्पीकरण सामग्री Nb2O5

,

अकार्बनिक वाष्पीकरण सामग्री

उत्पाद का वर्णन

निओबियम ऑक्साइड (Nb2O5) एक उच्च प्रदर्शन अकार्बनिक कार्यात्मक सामग्री है, जिसे आमतौर पर वैक्यूम वाष्पीकरण कोटिंग, इलेक्ट्रॉन बीम वाष्पीकरण, आदि में उपयोग किया जाता है। इस सामग्री का उच्च अपवर्तक सूचकांक है,उत्कृष्ट विद्युतरोधक गुण, और अच्छी रासायनिक स्थिरता. यह व्यापक रूप से ऑप्टिकल फिल्मों, इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों, और कार्यात्मक परतों की तैयारी में प्रयोग किया जाता है,उच्च अंत ऑप्टिकल और माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स क्षेत्रों में इसे एक अपरिहार्य प्रमुख सामग्री बना रहा है.

नाइओबियम ऑक्साइड की उल्लेखनीय विशेषताएं

 

मैं उच्च अपवर्तक सूचकांक


निओबियम ऑक्साइड फिल्मों में 2.1-2.35 (500nm पर) का उच्च अपवर्तक सूचकांक होता है, जिससे वे बहुपरत ऑप्टिकल फिल्मों जैसे हस्तक्षेप कोटिंग्स, परावर्तक कोटिंग्स,और ऑप्टिकल फिल्टर.

  

मैं उत्कृष्ट विद्युतरोधक गुण

इसमें अच्छी पारदर्शिता और कम अवशोषण गुण होते हैं, जिससे यह दृश्य से निकट-अवरक्त तरंग दैर्ध्य तक ऑप्टिकल घटकों के लिए उपयुक्त होता है।

 

मैं उच्च विद्युतरोधक स्थिरता

उच्च-के डायलेक्ट्रिक सामग्री के रूप में, यह प्रभावी रूप से क्षमता प्रदर्शन को बढ़ाता है और अर्धचालक उपकरणों के लघुकरण और उच्च-प्रदर्शन मांगों को पूरा करता है।

 

मैं मजबूत रासायनिक स्थिरता

यह उच्च तापमान, आर्द्रता और रासायनिक रूप से संक्षारक वातावरण में स्थिर प्रदर्शन बनाए रखता है, जिससे उपकरणों का जीवनकाल बढ़ जाता है।

 

नाइओबियम ऑक्साइड के व्यापक अनुप्रयोग

मैं अर्धचालक निर्माण

एक उच्च-के डायलेक्ट्रिक सामग्री के रूप में, इसका उपयोग कोर घटकों जैसे कैपेसिटर और ट्रांजिस्टर में किया जाता है, जिससे कम बिजली की खपत और उच्च प्रदर्शन वाले माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक उपकरण संभव होते हैं।

 

मैं ऑप्टिकल उपकरण निर्माण

उच्च परिशुद्धता ऑप्टिकल फिल्मों के डिजाइन में व्यापक रूप से इस्तेमाल किया जाता है, जैसे ऑप्टिकल फिल्टर, प्रतिबिंब विरोधी कोटिंग, हस्तक्षेप कोटिंग और ऑप्टिकल लेंस कोटिंग,यह प्रभावी रूप से उपकरणों की पारगम्यता और स्थायित्व में सुधार कर सकता है.

 

मैं फोटोवोल्टिक उद्योग

इसका उपयोग पतली फिल्म वाली सौर कोशिकाओं में एक कार्यात्मक परत के रूप में किया जाता है ताकि फोटोवोल्टिक रूपांतरण दक्षता में सुधार किया जा सके, साथ ही साथ उपकरणों की स्थिरता और जीवन काल में वृद्धि की जा सके।